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      一種有機無機雜化鈣鈦礦薄膜的制備方法_2

      文檔序號:9789354閱讀:來源:國知局
      見圖3(b))。
      [0023]實施例2:
      步驟(I)和步驟(2)同實施例1。
      [0024](3)以步驟(I)處理好的基底為陰極,石墨片為陽極,兩者平行正對插入步驟(2)制得的電解液中,恒溫保持在80°C并慢速磁力攪拌,調(diào)節(jié)電流密度為1.0mA/cm2,電沉積的時間為20分鐘,沉積結(jié)束后取出基底,用蒸餾水清洗后再用氮氣吹干,在基底上沉積出硫化鉛薄膜。
      [0025](4)以步驟(3)沉積出的硫化鉛薄膜作為前驅(qū)體,與過量單質(zhì)碘共同放置于真空氣氛爐中,在120°C下保溫30分鐘,碘蒸發(fā)為碘蒸氣,將硫化鉛薄膜碘化,得到黃色碘化鉛薄膜。
      [0026](5)將甲基碘化銨溶于異丙醇中配制成濃度為0.06 mol/L的溶液,將步驟(4)制得的碘化鉛薄膜浸入所配制溶液中30秒,取出后用異丙醇沖洗,再放入干燥箱中于70°C保溫30分鐘,即制得有機無機雜化的黑色CH3NH3PbI3鈣鈦礦薄膜,膜層厚度大概為I um(見圖3
      (C))。
      [0027]實施例3:
      步驟(I)和步驟(2)同實施例1。
      [0028](3)以步驟(I)處理好的基底為陰極,石墨片為陽極,兩者平行正對插入步驟(2)制得的電解液中,恒溫保持在80°C并慢速磁力攪拌,調(diào)節(jié)電流密度為1.0mA/cm2,電沉積的時間為30分鐘,沉積結(jié)束后取出基底,用蒸餾水清洗后再用氮氣吹干,在基底上沉積出硫化鉛薄膜。
      [0029](4)以步驟(3)沉積出的硫化鉛薄膜作為前驅(qū)體,與過量單質(zhì)碘共同放置于真空氣氛爐中,在120°C下保溫30分鐘,碘蒸發(fā)為碘蒸氣,將硫化鉛薄膜碘化,得到黃色碘化鉛薄膜。
      [0030](5)將甲基碘化銨溶于異丙醇中配制成濃度為0.06 mol/L的溶液,將步驟(4)制得的碘化鉛薄膜浸入所配制溶液中30秒,取出后用異丙醇沖洗,再放入干燥箱中于70°C保溫30分鐘,即制得有機無機雜化的黑色CH3NH3PbI3鈣鈦礦薄膜,膜層厚度大概為1.5 um(見圖3
      (d))o
      [0031]實施例4:
      步驟(I)、步驟(2)、步驟(3)和步驟(4)同實施例1。
      [0032](5)將CH3NH31與CH3NH3Br溶于異丙醇中配制成總濃度為0.06 mo I /L的溶液,CH3NH31與CH3NH3Br的摩爾比為3:2,將步驟(4)制得的碘化鉛薄膜浸入所配制溶液中30秒,取出后用異丙醇沖洗,再放入干燥箱中于70°C保溫30分鐘,即制得有機無機雜化的CH3NH3PbI2.6 Br0.4鈣鈦礦薄膜。
      [0033]本實施例制得的CH3NH3PbI2.6 BrQ.4鈣鈦礦薄膜的吸光峰位置大概為736nm(見圖4
      (b)),相較實施例1的(見圖4(a))吸光峰位置發(fā)生藍移。
      [0034]實施例5:
      步驟(I)、步驟(2)、步驟(3)和步驟(4)同實施例1。
      [0035](5)將CH3NH3I與CH3NH3Br溶于異丙醇中配制成總濃度為0.06 mol/L的溶液,CH3NH31與CH3NH3Br的摩爾比為1:4,將步驟(4)制得的碘化鉛薄膜浸入所配制溶液中30秒,取出后用異丙醇沖洗,再放入干燥箱中于70°C保溫30分鐘,即制得有機無機雜化的CH3NH3PbI 2.2Βπ).8鈣鈦礦薄膜。
      [0036]本實施例制得的CH3NH3PbI 2.2BrQ.8鈣鈦礦薄膜的吸光峰位置大概為706nm(見圖4
      (c)),相較實施例4的(見圖4(b))吸光峰位置發(fā)生藍移。
      [0037]實施例6:
      步驟(I)、步驟(2)、步驟(3)和步驟(4)同實施例1。
      [0038](5)將CH3NH3Br溶于異丙醇中配制成總濃度為0.06 mo 1/L的溶液,將步驟(4)制得的碘化鉛薄膜浸入所配制溶液中30秒,取出后用異丙醇沖洗,再放入干燥箱中于70°C保溫30分鐘,即制得有機無機雜化的CH3NH3PbI2Br鈣鈦礦薄膜。
      [0039]本實施例制得的CH3NH3PbI2Br鈣鈦礦薄膜的吸光峰位置大概為690nm(見圖4(d)),相較實施例5的(見圖4(c))吸光峰位置發(fā)生藍移。
      【主權(quán)項】
      1.一種有機無機雜化鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于具體步驟為: (1)以導(dǎo)電玻璃作為基底,用鋅粉和質(zhì)量百分比濃度為2%的鹽酸對導(dǎo)電玻璃導(dǎo)電面上不需要沉積的部位進行腐蝕,留出需要沉積的面積,然后依次用乙醇、丙酮和去離子水分別超聲清洗10分鐘,恒溫箱50°C烘干,制得處理好的基底; (2)稱取0.033g硝酸鉛和0.039g五水合硫代硫酸鈉,溶于10ml蒸餾水中,制得混合溶液,并用乙酸調(diào)節(jié)混合溶液的pH值為2.8,即為電解液; (3)以步驟(I)處理好的基底為陰極,石墨片為陽極,兩者平行正對插入步驟(2)制得的電解液中,恒溫保持在80°C并慢速磁力攪拌,調(diào)節(jié)電流密度為1.0mA/cm2,電沉積的時間為10?30分鐘,沉積結(jié)束后取出基底,用蒸餾水清洗后再用氮氣吹干,在基底上沉積出硫化鉛薄膜; (4)以步驟(3)沉積出的硫化鉛薄膜作為前驅(qū)體,與過量單質(zhì)碘共同放置于真空氣氛爐中,在120°C下保溫30分鐘,碘蒸發(fā)為碘蒸氣,將硫化鉛薄膜碘化,得到黃色碘化鉛薄膜; (5)將甲基鹵化銨溶于異丙醇中配制成濃度為0.06mol/L的溶液,將步驟(4)制得的碘化鉛薄膜浸入所配制溶液中30秒,取出后用異丙醇沖洗,再放入干燥箱中于70°C保溫30分鐘,即制得有機無機雜化的CH3NH3PbX3鈣鈦礦薄膜; 所述甲基鹵化銨為CH3NH3X,其中X為I或/和Br,當X為I和Br時,二者能夠以任意摩爾比混合。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種有機無機雜化鈣鈦礦薄膜的制備方法。以導(dǎo)電玻璃作為基底,采用電沉積的方法制備硫化鉛薄膜,并以硫化鉛薄膜作為前驅(qū)體,碘單質(zhì)作為碘化劑將硫化鉛碘化為碘化鉛,再與甲基鹵化銨反應(yīng)得到鈣鈦礦薄膜。本發(fā)明方法能夠大面積操作,膜層的面積和形狀可控,通過腐蝕導(dǎo)電面的方法可控制電沉積的面積和形狀;膜層的厚度可控,通過調(diào)節(jié)電沉積的時間能夠方便的控制膜層厚度;膜層的化學成分可控,通過改變CH3NH3X溶液中I和Br的比例能夠得到成分不同的膜層,從而得到物理性質(zhì)不同的鈣鈦礦薄膜,且得到的膜層較均勻,致密性好。
      【IPC分類】H01L51/48, H01L51/46
      【公開號】CN105552237
      【申請?zhí)枴緾N201610084608
      【發(fā)明人】利明, 袁小親, 阮浩然, 楊陽博文
      【申請人】桂林理工大學
      【公開日】2016年5月4日
      【申請日】2016年2月14日
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