的制備良率，提高顯示效果。
[0027]以上僅為本發(fā)明的一種實(shí)施方式，本發(fā)明的實(shí)施方式還可以為，該柔性顯示裝置中的柔性基板還包括至少一層第三有機(jī)膜層，該第三有機(jī)膜層設(shè)置在第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層之間；如圖2所示，該柔性基板2包括第一有機(jī)膜層21和第二有機(jī)膜層22，該第一有機(jī)膜層21和第二有機(jī)膜層22之間還設(shè)置有至少一層第三有機(jī)膜層24，第三有機(jī)膜層24和無(wú)機(jī)膜層23交替間隔堆疊。
[0028]在本發(fā)明實(shí)施例中，該柔性顯示裝置的柔性基板中第一有機(jī)膜層、第二有機(jī)膜層和第三有機(jī)膜層的材料均為聚酰亞胺;該第一有機(jī)膜層、第二有機(jī)膜層和第三有機(jī)膜層的厚度均為10μπι-20μπι。該無(wú)機(jī)膜層的材料包括氧化硅，氮化硅、鋁、鈦、鉬、氧化鋁中的至少一種材料;無(wú)機(jī)膜層的厚度為50nm-500nm。該柔性基板的厚度小于等于50μηι。其中，無(wú)機(jī)膜層的材料包括金屬材料，使得該柔性基板有較好的散熱效果，并且尤其時(shí)柔性基板的厚度小于等于50μπι時(shí)，柔性基板比較薄，既可以滿足市場(chǎng)需求，又可以使得柔性顯示裝置有較好的散熱效果，還可以在制備柔性顯示裝置的過(guò)程中，對(duì)顯示器件進(jìn)行一定的保護(hù)，防止激光照射產(chǎn)生的熱量對(duì)顯示器件造成損傷。
[0029]本發(fā)明實(shí)施例提供一種柔性顯示裝置的制備方法，參考圖4所示的流程圖，本發(fā)明實(shí)施例中的柔性顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖可以參考圖3，該柔性顯示裝置的制備方法包括以下步驟，
[0030]提供一第一基板I，在所述第一基板I上形成第一有機(jī)膜層21；
[0031 ]在所述第一有機(jī)膜層21上形成至少一層無(wú)機(jī)膜層23;
[0032]在形成有所述無(wú)機(jī)膜層23的第一基板I上形成第二有機(jī)膜層22;
[0033]在所述第二有機(jī)膜層22上形成顯示元件；
[0034]分離所述柔性基板2與所述第一基板I。
[0035]在本發(fā)明實(shí)施例中，所述在所述第一基板上形成第一有機(jī)膜層步驟包括:在第一基板上涂布一層第一膜層，對(duì)所述第一膜層進(jìn)行烘烤形成所述第一有機(jī)膜層，其中，烘烤的溫度大于等于400°C，烘烤時(shí)間小于等于6h。
[0036]在本發(fā)明實(shí)施例中，采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積、原子力層積、溶膠凝膠法中的任意一種方法形成所述無(wú)機(jī)膜層。
[0037]在本發(fā)明實(shí)施例中，所述在形成有所述無(wú)機(jī)膜層的第一基板上形成第二有機(jī)膜層步驟包括:在所述形成有所述無(wú)機(jī)膜層的第一基板上涂布一層第一膜層，對(duì)所述第一膜層進(jìn)行烘烤形成所述第二有機(jī)膜層，其中，烘烤的溫度大于等于400°C，烘烤時(shí)間為小于等于6h0
[0038]在本發(fā)明實(shí)施例中，所述分離所述柔性基板與所述第一基板步驟包括:采用激光照射的方法對(duì)所述柔性基板和所述第一基板進(jìn)行切割照射后分離。
[0039]在本發(fā)明實(shí)施例中，參考如圖3所示的柔性顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，所述分離所述柔性基板與所述第一基板步驟之前還包括，在形成有顯示元件的柔性基板上形成封裝層5，在封裝層5上貼上保護(hù)膜層6;封裝層對(duì)該復(fù)合基板進(jìn)行密封，防止外界水汽進(jìn)入顯示元件內(nèi)，而影響顯示效果。
[0040]本發(fā)明實(shí)施例提供的柔性顯示裝置的制備方法，無(wú)需在柔性基板遠(yuǎn)離顯示元件的表面上粘貼下保護(hù)膜層，從而能夠克服工藝上粘貼下保護(hù)膜層困難，且容易產(chǎn)生氣泡，損傷薄膜晶體管和發(fā)光器件等問(wèn)題，從而提高柔性顯示器的良率;且在柔性基板與第一基板之間沒有形成離型層或者剝離層，這樣能夠克服由于離型層或者玻璃層表面的不平整，而導(dǎo)致涂布的聚酰亞胺層的厚度不均勻的問(wèn)題;并且能夠提供顯示器的制備良率，提高顯示效果O
[0041]以上對(duì)本發(fā)明實(shí)施例所提供的雙柵極驅(qū)動(dòng)的橫向排列的像素結(jié)構(gòu)及顯示面板進(jìn)行了詳細(xì)介紹，本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說(shuō)明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在【具體實(shí)施方式】及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說(shuō)明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種復(fù)合基板，包括第一基板和柔性基板，所述柔性基板包括第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層設(shè)置在所述第一基板上，所述第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層之間設(shè)置有至少一層無(wú)機(jī)膜層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述第一有機(jī)膜層和所述第二有機(jī)膜層之間還設(shè)置有至少一層第三有機(jī)膜層，所述第三有機(jī)膜層和所述無(wú)機(jī)膜層交替間隔堆置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述第一基板為玻璃基板或者剛性基板。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述第一有機(jī)膜層、所述第二有機(jī)膜層和所述第三有機(jī)膜層的材料均為聚酰亞胺。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述第一有機(jī)膜層、所述第二有機(jī)膜層和所述第三有機(jī)膜層的厚度均為10μπι-20μπι。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述無(wú)機(jī)膜層的材料包括氧化硅，氮化硅、鋁、鈦、鉬、氧化鋁中的至少一種材料。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述無(wú)機(jī)膜層的厚度為50nm-500nm。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板，其特征在于，所述柔性基板的厚度小于等于50μπι。9.一種柔性顯示裝置，包括柔性基板和顯示元件，所述柔性基板包括第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層之間設(shè)置有至少一層無(wú)機(jī)膜層； 所述顯示元件，位于所述柔性基板的第二有機(jī)膜層上。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的柔性顯示裝置，其特征在于，所述第一有機(jī)膜層和所述第二有機(jī)膜層之間還設(shè)置有至少一層第三有機(jī)膜層，所述第三有機(jī)膜層和所述無(wú)機(jī)膜層交替間隔堆置。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的柔性顯示裝置，其特征在于，所述第一有機(jī)膜層、所述第二有機(jī)膜層和所述第三有機(jī)膜層的材料均為聚酰亞胺。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的柔性顯示裝置，其特征在于，所述第一有機(jī)膜層、所述第二有機(jī)膜層和所述第三有機(jī)膜層的厚度均為10μπι-20μπι。13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的柔性顯示裝置，其特征在于，所述無(wú)機(jī)膜層的材料包括氧化硅，氮化硅、鋁、鈦、鉬、氧化鋁中的至少一種材料。14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的柔性顯示裝置，其特征在于，所述無(wú)機(jī)膜層的厚度為50nm-500nmo15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的柔性顯示裝置，其特征在于，所述柔性基板的厚度小于等于5 Oym ο16.—種柔性顯示裝置的制備方法，包括以下步驟， 提供一第一基板，在所述第一基板上形成第一有機(jī)膜層； 在所述第一有機(jī)膜層上形成至少一層無(wú)機(jī)膜層； 在形成有所述無(wú)機(jī)膜層的第一基板上形成第二有機(jī)膜層； 在所述第二有機(jī)膜層上形成顯示元件； 分離所述柔性基板與所述第一基板。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述在所述第一基板上形成第一有機(jī)膜層步驟包括:在所述第一基板上涂布一層第一膜層，對(duì)所述第一膜層進(jìn)行烘烤形成所述第一有機(jī)膜層，其中，烘烤的溫度大于等于400°C，烘烤時(shí)間小于等于6h。18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示裝置的制備方法，其特征在于，采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積、原子力層積、溶膠凝膠法中的任意一種方法形成所述無(wú)機(jī)膜層。19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述在形成有所述無(wú)機(jī)膜層的第一基板上形成第二有機(jī)膜層步驟包括:在所述形成有所述無(wú)機(jī)膜層的第一基板上涂布一層第一膜層，對(duì)所述第一膜層進(jìn)行烘烤形成所述第二有機(jī)膜層，其中，烘烤的溫度大于等于400°C，烘烤時(shí)間為小于等于6h。20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述分離所述柔性基板與所述第一基板步驟包括:采用激光照射的方法對(duì)所述柔性基板和所述第一基板進(jìn)行切割照射后分離。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種復(fù)合基板，以及柔性顯示裝置及其制備方法，該復(fù)合基板包括第一基板和柔性基板，所述柔性基板包括第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層設(shè)置在所述第一基板上，所述第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層之間設(shè)置有至少一層無(wú)機(jī)膜層。本發(fā)明實(shí)施例提供的柔性基板，無(wú)需在柔性基板遠(yuǎn)離顯示元件的表面上粘貼下保護(hù)膜層，在柔性基板與第一基板之間沒有設(shè)置離型層或者剝離層，能夠提供顯示器的制備良率，提高顯示效果。
【IPC分類】H01L51/00, H01L51/56, H01L51/52
【公開號(hào)】CN105552247
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510898106
【發(fā)明人】肖燦俊, 陳正忠
【申請(qǐng)人】上海天馬微電子有限公司, 天馬微電子股份有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請(qǐng)日】2015年12月8日