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      圖案化膜的形成方法、光學(xué)組件的制造方法、電路板的制造方法和電子組件的制造方法_2

      文檔序號(hào):9816490閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      動(dòng),使得在通過(guò)對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)3觀察模具11的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A(由14表示)和基板9的 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B(由15表示)的同時(shí),從上方看模具11的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A與基板9的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B相吻合, 如圖3A所示(圖1中的步驟2)。
      [0048] 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A和相對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B具有凹凸結(jié)構(gòu)。期望地,該凹凸結(jié)構(gòu)具有周期性。
      [0049] 此時(shí),在第一對(duì)準(zhǔn)中,模具11的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A與基板9的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B之間的對(duì)準(zhǔn)并不必 精確到納米級(jí),而是在I微米至900微米的范圍內(nèi)。
      [(K)加]基板臺(tái)6期望具有吸著性表面(suction or sticky surface),從而便于基板9轉(zhuǎn) 移而不使基板在基板臺(tái)6上移動(dòng)。如果基板臺(tái)6具有此類(lèi)吸著性表面,則基板臺(tái)6整體可W由 吸著性材料制成,或者基板臺(tái)可W在表面上具有吸著性層。
      [0051] 模具11由可W透過(guò)來(lái)自光源2的光的材料如石英、娃、聚合物或運(yùn)些材料的組合制 成。特別是,有利的是至少模具11的與光固化性組合物R接觸的部分由石英制成,更有利的 是模具整體由石英制成。由于石英具有低熱膨脹系數(shù),所W即使受到曝光熱化eat Of exposure Ii曲t)對(duì)準(zhǔn)精度也不容易降低。
      [0052] 模具11由模具保持機(jī)構(gòu)8保持,并期望具有在將與光固化性組合物R接觸的面的對(duì) 側(cè)面的中央部分具有比其它部分薄的厚度的模腔(氣室)7。模腔7幫助縮短引入光固化性組 合物R所花費(fèi)的時(shí)間或減少移動(dòng)模具11所需的力(脫模力)。
      [0053] 在步驟(1)之后,表面上具有包含光固化性組合物R的涂膜10的基板9在步驟(2)之 前從對(duì)應(yīng)于涂布機(jī)構(gòu)5的位置(在涂布機(jī)構(gòu)5正下方)移動(dòng)至對(duì)應(yīng)于模具11的位置(在模具11 正下方)。
      [0054] 盡管在本實(shí)施方案的方法中,使用對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)3將由14表示的模具11的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A 和由15表示的基板9的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B彼此對(duì)準(zhǔn),但在另一實(shí)施方案中,對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A和B的對(duì)準(zhǔn)可 通過(guò)除了使用對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)W外的任何手段來(lái)進(jìn)行。
      [0055] 另外,盡管在本實(shí)施方案的方法中,對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A和B具有周期性凹凸結(jié)構(gòu),但對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記A和B的結(jié)構(gòu)不限于周期性凹凸結(jié)構(gòu)。
      [0056] (3.氣體供給步驟)
      [0057] 接著,將氣體16從氣體供給機(jī)構(gòu)4引入基板9之上,從而在基板9上的涂膜10的周?chē)?形成氣體氛圍。在該步驟中,氣體16在液態(tài)下的折射率低于步驟(1)中涂布的光固化性組合 物R的折射率nR,且氣體16在低于其蒸汽壓的壓力下或在高于其沸點(diǎn)的溫度下來(lái)供給(圖1 中的步驟3,示于圖3B)。
      [00曰引期望,氣體16在液態(tài)下的折射率低于光固化性組合物R的折射率,在光固化性組合 物R中溶解1體積% W上。
      [0059] 此類(lèi)氣體的實(shí)例包括氯氣控(CFC)、氣控(FC)、氨氯氣控化CFC)、氨氣控化FC)和氨 氣酸化FE)。
      [0060] 更具體地,所述氣體的實(shí)例包括HFC-245fa( 1,1,1,3,3-五氣丙烷,CHF2C此CF3)、 HFE-245mc(五氣乙基甲基酸、CF3CF2OC出)、和HFO-1233zd( 1-氯-3,3,3-S氣丙締 ,CHCl = CHCFs)O
      [0061 ] HFC-245fa和HFE-245mc在主要包含丙締酸系單體的光固化性組合物R中具有高達(dá) 約40體積%的溶解度,且其液體的折射率低于用作光固化性組合物R的主成分的丙締酸系 單體的折射率。運(yùn)里,為了比較丙締酸系單體與氣體在液態(tài)下之間的折射率,因?yàn)楸喫嵯?單體為光固化性組合物R的主成分,所W可W將丙締酸系單體的折射率視為基本上與光固 化性組合物R的折射率相同。
      [0062] 鑒于不燃性、低毒性和低反應(yīng)性(因此,是安全的),HFC-245fa和HFE-245mc也是有 利的。氣體16可W由單一氣體組成,或者可W包含多種氣體。因此,上述氣體可W單獨(dú)使用 或組合使用。
      [0063] 氣體16可為任意上述氣體與空氣、氮?dú)?、二氧化碳、氮?dú)饣驓鈿獾鹊幕旌衔?。如?使用上述氣體的混合物,則氮?dú)膺m合作為待混合的氣體。運(yùn)是因?yàn)榈獨(dú)夥€(wěn)定且容易在壓印 時(shí)填充(introduce)。
      [0064] (4.接觸步驟)
      [0065] 接著,使模具11與光固化性組合物R的涂膜10接觸(圖1中的步驟4)。
      [0066] 涂膜10的光固化性組合物R填充基板9與模具11之間的間隙W及模具11上的凹部 并溶解其中存在的氣體16,從而形成光固化性組合物R'的涂膜17。
      [0067] (5.第二對(duì)準(zhǔn)步驟)
      [0068] 隨后,在維持步驟(4)所產(chǎn)生的模具11與光固化性組合物R'的涂膜17之間接觸的 狀態(tài)下,用從光源2發(fā)出的光(由18表示)照射由14表示的模具的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A和由15表示的基 板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B,并且移動(dòng)基板臺(tái)6來(lái)調(diào)整基板9的位置,使得在通過(guò)對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)3檢測(cè)來(lái)自 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A的光19和來(lái)自對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B的光2 0的同時(shí),使光19與光2 0之間的位置偏移 (position gap)減少(圖1中的步驟5,示于3C)。
      [0069] 光19和光20可W為反射光或衍射光(或者反射光和衍射光),并且光19與光20之間 的位置偏移為在X-Y平面上的偏移。
      [0070] 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B與步驟(2)中所使用的相同。
      [0071] 模具11與基板9之間的光固化性組合物R'的涂膜17具有在光a的波長(zhǎng)下的折射率 (有效折射率)郵',郵'由下述Maxwell-Garnett式(5)計(jì)算:
      [0073] Vp表不氣體在光固化性組合物R中的溶解度,rig表不在光a的波長(zhǎng)下氣體在液態(tài)下 的折射率,和m表示在光a的波長(zhǎng)下光固化性組合物R的折射率。
      [0074] 對(duì)于運(yùn)里使用式(5)的計(jì)算,假定溶解在待溶解的氣體的沸點(diǎn)W上的溫度下的液 體中的氣體的折射率與已經(jīng)在該溫度下加壓的氣體在液態(tài)下的折射率基本上相同。
      [0075] 通過(guò)在光固化性組合物R的涂膜中溶解氣體,涂膜的折射率在光a的波長(zhǎng)下降低 HR-HR'O
      [0076] 因此,通過(guò)將氣體16溶解在光固化性組合物中,如下述不等式(1)所示,模具11與 光固化性組合物之間的折射率的差增大:
      [0077] |道-郵|引郵-郵'I (1)
      [0078] 其中,郵表不在光a的波長(zhǎng)下光固化性組合物R的折射率,郵'表不在光a的波長(zhǎng)下光 固化性組合物R'的折射率,和m表示在光a的波長(zhǎng)下模具的折射率。
      [0079] 因此,與來(lái)自模具11的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A與光固化性組合物R之間的界面的光相比,來(lái)自 模具11的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A與光固化性組合物R'之間的界面的光的反射率或衍射效率增大,因此, 對(duì)準(zhǔn)精度提高。
      [0080] 一般地,模具11的折射率M高于光固化性組合物R的折射率nR,因此,不等式(2)為 真:
      [0081] 0 < HM-HR<(2)
      [0082] 不等式(2)中,郵表示在光a的波長(zhǎng)下光固化性組合物R的折射率,郵'表示在光a的 波長(zhǎng)下光固化性組合物R'的折射率,和m表示在光a的波長(zhǎng)下模具的折射率。
      [0083] 期望,m與m'之差較大,并滿(mǎn)足下述不等式(3)。
      [0084] 〇.〇1<郵一郵'(3)
      [0085] 不等式(3)中,郵表示在光a的波長(zhǎng)下光固化性組合物R的折射率,和nR'表示在光a 的波長(zhǎng)下光固化性組合物R'的折射率
      [0086] 特別是,當(dāng)模具11的折射率m與光固化性組合物R的折射率M之差小時(shí),例如,當(dāng)下 述不等式(4)為真時(shí),對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記容易檢測(cè)。
      [0087] 0 < HM-HR <0.02 (4)
      [0088] 不等式(4)中,M表示在光a的波長(zhǎng)下光固化性組合物R的折射率,和m表示在光a的 波長(zhǎng)下模具的折射率。
      [0089] 本實(shí)施方案的方法中,移動(dòng)基板臺(tái)6來(lái)調(diào)芐基板9的位置,使得來(lái)自模具11的對(duì)準(zhǔn) 標(biāo)記A的光19與來(lái)自基板9的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記B的光20之間的位置偏移減少。然而,在本發(fā)明的另一 實(shí)施方案中,可W移動(dòng)模具來(lái)調(diào)節(jié)光19與光20之間的位置偏移。
      [0090] 光a的波長(zhǎng)優(yōu)選為SOOnmW上。運(yùn)是因?yàn)橛糜趬河〉墓夤袒越M合物通常在400皿 W下的波長(zhǎng)下固化。
      [0091] W下通過(guò)實(shí)施例計(jì)算一種情況下的光固化性組合物R'的折射率nR'。在此情況中, 光a的波長(zhǎng)為632.8皿,光固化性組合物3主要包含丙締酸系單體,
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