位置配置振動板42。根據(jù)該樣的結(jié)構(gòu)， 能夠提高超聲波的功率密度。因此，能夠減小振動板42的長度，結(jié)果，能夠減小除渣處理裝 置的全長。
[0181] (4)在第5例的除渣處理裝置中，可W設(shè)置在向濕潤處理部70供給配線基板材料 1前對配線基板材料1的被處理部分照射紫外線的干式紫外線照射處理部。作為該干式紫 外線照射處理部，能夠使用與紫外線照射處理部30同樣的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該樣的結(jié)構(gòu)，由于通 過干式紫外線照射處理部改善配線基板材料1的被處理部分的浸潤性，所W在濕潤處理部 70中能夠可靠地濕潤配線基板材料1的被處理部分。
[0182] 實(shí)施例
[0183] W下，對本發(fā)明的具體的實(shí)施例進(jìn)行說明，但本發(fā)明并不限定于該些實(shí)施例。
[0184][試驗(yàn)用配線基板材料的制作]
[01化]準(zhǔn)備在厚度為100ym的銅巧上形成有厚度100ym的絕緣層的層疊體。該里，絕 緣層是在環(huán)氧樹脂中W40質(zhì)量％的比例含有平均粒子徑1. 0ym的氧化娃的結(jié)構(gòu)。
[0186] 通過用碳酸氣體激光裝置對該層疊體的絕緣層實(shí)施激光加工，在該絕緣層上形成 直徑50ym的貫通孔，由此得到試驗(yàn)用配線基板材料。通過掃描型電子顯微鏡觀察該試驗(yàn) 用配線基板材料的貫通孔的底部，確認(rèn)了在貫通孔的底部殘留有殘?jiān)?br>[0187] <實(shí)施例1〉
[0188] 對于試驗(yàn)用配線基板材料，通過進(jìn)行下述紫外線照射處理工序及下述物理性振動 處理工序，進(jìn)行試驗(yàn)用配線基板材料的除渣處理。
[0189] (1)紫外線照射處理工序
[0190] 在大氣中，通過具備氣準(zhǔn)分子燈的紫外線照射裝置W下述的條件對試驗(yàn)用配線基 板材料的貫通孔的內(nèi)部進(jìn)行紫外線照射處理。
[0191] 紫外線照射處理?xiàng)l件：
[019引紫外線照射裝置的紫外線射出窗的外表面上的紫外線照度=40W/cm2
[0193] 紫外線照射裝置的紫外線射出窗與試驗(yàn)用配線基板材料的分離距離=3mm
[0194] 紫外線照射時(shí)間=180分鐘
[0195] (2)物理性振動處理工序
[0196] 在上述（1)的紫外線照射處理工序結(jié)束后，將試驗(yàn)用配線基板材料浸潰到純水 中。在該狀態(tài)下，對于試驗(yàn)用配線基板材料進(jìn)行3分鐘通過40. 0曲Z的超聲波的超聲波振 動處理。
[0197][評價(jià)]
[0198] 用掃描型電子顯微鏡觀察除渣處理結(jié)束后的試驗(yàn)用配線基板材料的底部，用下述 的基準(zhǔn)評價(jià)起因于樹脂的有機(jī)物殘?jiān)捌鹨蛴谔盍系臒o機(jī)物殘?jiān)母髯缘臍埩魻顟B(tài)。
[0199] 0;看不到殘?jiān)臍埩?br>[0200] X;看到大量殘?jiān)臍埩?br>[0201] W上，將結(jié)果表示在下述表1中。 悅0引< 實(shí)施例2〉
[0203] 對于試驗(yàn)用配線基板材料，通過交替地重復(fù)3次下述紫外線照射處理工序及下述 物理性振動處理工序，進(jìn)行試驗(yàn)用配線基板材料的除渣處理。并且，對于除渣處理結(jié)束后的 試驗(yàn)用配線基板材料進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評價(jià)。將結(jié)果表示在下述表1中。
[0204] (1)紫外線照射處理工序
[02化]在大氣中，通過具備氣準(zhǔn)分子燈的紫外線照射裝置W下述的條件對試驗(yàn)用配線基 板材料的貫通孔的內(nèi)部進(jìn)行紫外線照射處理。并且，對于除渣處理結(jié)束后的試驗(yàn)用配線基 板材料進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評價(jià)。將結(jié)果表示在下述表1中。
[0206] 紫外線照射處理?xiàng)l件：
[0207] 紫外線照射裝置的紫外線射出窗的外表面上的紫外線照度=40W/cm2
[0208] 紫外線照射裝置的紫外線射出窗與試驗(yàn)用配線基板材料的分離距離=3mm
[0209] 紫外線照射時(shí)間=30分鐘
[0210] (2)物理性振動處理工序
[0211] 在上述（1)的紫外線照射處理工序結(jié)束后，將試驗(yàn)用配線基板材料浸潰到純水 中。在該狀態(tài)下，對于試驗(yàn)用配線基板材料進(jìn)行3分鐘通過40. 0曲z的超聲波的超聲波振 動處理。
[0212] <實(shí)施例3〉
[0213] 對于試驗(yàn)用配線基板材料，通過進(jìn)行下述紫外線照射處理工序及下述物理性振動 處理工序，進(jìn)行試驗(yàn)用配線基板材料的除渣處理。并且，對于除渣處理結(jié)束后的試驗(yàn)用配線 基板材料進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評價(jià)。將結(jié)果表示在下述表1中。
[0214] (1)紫外線照射處理工序
[0215] 與實(shí)施例1同樣，向試驗(yàn)用配線基板材料的貫通孔的內(nèi)部照射紫外線。
[0216] (2)物理性振動處理工序
[0217] 在針對上述（1)基板材料的紫外線照射處理工序結(jié)束后，向該試驗(yàn)用配線基板材 料的貫通孔的內(nèi)部一邊使0. 2MPa的壓縮空氣W30曲Z超聲波振動一邊噴吹10秒鐘。
[021引< 比較例1〉
[0219] 對于試驗(yàn)用配線基板材料，如W下該樣進(jìn)行除渣處理。
[0220] 在大氣中，通過具備氣準(zhǔn)分子燈的紫外線照射裝置W下述的條件對試驗(yàn)用配線基 板材料的貫通孔的內(nèi)部進(jìn)行紫外線照射處理。在該紫外線照射處理結(jié)束后，用高壓水流清 洗試驗(yàn)用配線基板材料。并且，對于除渣處理結(jié)束后的試驗(yàn)用配線基板材料進(jìn)行與實(shí)施例 1同樣的評價(jià)。將結(jié)果表示在下述表1中。
[0221] 紫外線照射處理?xiàng)l件：
[022引紫外線照射裝置的紫外線射出窗的外表面上的紫外線照度=40W/cm2
[0223] 紫外線照射裝置的紫外線射出窗與試驗(yàn)用配線基板材料的分離距離=3mm
[0224] 紫外線照射時(shí)間=90分鐘 悅2引< 比較例2〉
[0226] 除了將紫外線照射時(shí)間變更為120分鐘W外，與比較例1同樣地進(jìn)行試驗(yàn)用配線 基板材料的除渣處理，進(jìn)行關(guān)于該試驗(yàn)用配線基板材料的評價(jià)。將結(jié)果表示在下述表1中。
[0227] <比較例3〉
[022引除了將紫外線照射時(shí)間變更為180分鐘W外，與比較例1同樣地進(jìn)行試驗(yàn)用配線 基板材料的除渣處理，進(jìn)行關(guān)于該試驗(yàn)用配線基板材料的評價(jià)。將結(jié)果表示在下述表1中。
[0229] <比較例4〉
[0230] 將試驗(yàn)用配線基板材料浸潰到純水中。在該狀態(tài)下，通過對試驗(yàn)用配線基板材料 進(jìn)行10分鐘通過40. 0曲Z的超聲波的超聲波振動處理，進(jìn)行試驗(yàn)用配線基板材料的除渣處 理。
[0231] 并且，對于除渣處理結(jié)束后的試驗(yàn)用配線基板材料進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評價(jià)。 將結(jié)果表示在下述表1中。 悅3引< 比較例5〉
[023引對于試驗(yàn)用配線基板材料的貫通孔的內(nèi)部，通過一邊使0.2MPa的壓縮空氣W 30曲Z超聲波振動一邊噴吹10秒鐘，進(jìn)行試驗(yàn)用配線基板材料的除渣處理。
[0234] 并且，對于除渣處理結(jié)束后的試驗(yàn)用配線基板材料進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的評價(jià)。 將結(jié)果表示在下述表1中。
[023引[表U
[0236]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種除渣處理方法，是層疊有由含有填料的樹脂構(gòu)成的絕緣層和導(dǎo)電層的配線基板 材料的除渣處理方法，其特征在于，具有： 紫外線照射處理工序，對上述配線基板材料照射波長220nm以下的紫外線；以及 物理性振動處理工序，對經(jīng)過了該紫外線照射處理工序的配線基板材料施加物理性振 動。
2. 如權(quán)利要求1所述的除渣處理方法，其特征在于， 上述紫外線照射處理工序在含氧的氣體環(huán)境下進(jìn)行。
3. 如權(quán)利要求2所述的除渣處理方法，其特征在于， 上述配線基板材料形成有將上述絕緣層貫通的貫通孔。
4. 如權(quán)利要求3所述的除渣處理方法，其特征在于， 將上述絕緣層貫通的上述貫通孔是通過激光加工而形成。
5. 如權(quán)利要求2所述的除渣處理方法，其特征在于， 交替地重復(fù)上述紫外線照射處理工序和上述物理性振動處理工序。
6. 如權(quán)利要求2所述的除渣處理方法，其特征在于， 上述物理性振動處理工序通過超聲波振動處理而進(jìn)行。
7. 如權(quán)利要求1所述的除渣處理方法，其特征在于， 對于上述配線基板材料的被處理部分，在該被處理部分濕潤的狀態(tài)下進(jìn)行上述紫外線 照射處理工序。
8. 如權(quán)利要求7所述的除渣處理方法，其特征在于， 作為上述紫外線照射處理工序的前處理工序而具有濕潤處理工序：將上述配線基板材 料浸漬到水中，通過在該狀態(tài)下使該水發(fā)生超聲波振動，將該配線基板材料的被處理部分 濕潤。
9. 如權(quán)利要求7所述的除渣處理方法，其特征在于， 作為上述紫外線照射處理工序的前處理工序而具有： 浸潤性改善處理工序，在上述配線基板材料的被處理部分不濕潤的狀態(tài)下，改善該被 處理部分的浸潤性；以及 濕潤處理工序，將經(jīng)過了該浸潤性改善處理工序的配線基板材料的被處理部分濕潤。
10. 如權(quán)利要求9所述的除渣處理方法，其特征在于， 通過對上述配線基板材料的被處理部分在該被處理部分不濕潤的狀態(tài)下照射紫外線 的干式紫外線照射處理，進(jìn)行上述浸潤性改善處理工序。
11. 如權(quán)利要求8或9所述的除渣處理方法，其特征在于， 在進(jìn)行上述物理性振動處理工序前，交替地重復(fù)上述濕潤處理工序和上述紫外線照射 處理工序。
12. 如權(quán)利要求7所述的除渣處理方法，其特征在于， 交替地重復(fù)上述紫外線照射處理工序和上述物理性振動處理工序。
13. -種除渣處理裝置，是層疊有由含有填料的樹脂構(gòu)成的絕緣層和導(dǎo)電層的配線基 板材料的除渣處理裝置，其特征在于，具有： 紫外線照射處理部，對上述配線基板材料照射波長220nm以下的紫外線；以及 物理性振動處理部，對利用該紫外線照射處理部進(jìn)行紫外線照射處理后的配線基板材 料施加物理性振動。
14. 如權(quán)利要求13所述的除渣處理裝置，其特征在于， 上述物理性振動處理部通過超聲波振動處理對配線基板材料施加物理性振動。
15. 如權(quán)利要求13所述的除渣處理裝置，其特征在于， 上述紫外線照射處理部具有配置上述配線基板材料的處理室和向該處理室供給含氧 的處理用氣體的氣體供給口。
16. 如權(quán)利要求13所述的除渣處理裝置，其特征在于， 上述除渣處理裝置具有在向上述紫外線照射處理部供給上述配線基板材料之前將該 配線基板材料的被處理部分濕潤的濕潤處理部。
17. 如權(quán)利要求16所述的除渣處理裝置，其特征在于， 上述濕潤處理部將上述配線基板材料浸漬到水中，通過在該狀態(tài)下使該水發(fā)生超聲波 振動，將該配線基板材料的被處理部分濕潤。
18. 如權(quán)利要求16所述的除渣處理裝置，其特征在于， 具有在向濕潤處理部供給上述配線基板材料之前對該配線基板材料的被處理部分照 射紫外線的干式紫外線照射處理部。
【專利摘要】提供一種不論是起因于無機(jī)物質(zhì)及有機(jī)物質(zhì)的哪種的殘?jiān)寄軌蚩煽康爻?、不需要使用需要廢液處理的除渣處理方法及除渣處理裝置。本發(fā)明的除渣處理方法是層疊有由含有填料的樹脂構(gòu)成的絕緣層和導(dǎo)電層的配線基板材料的除渣處理方法，其特征在于，具有：紫外線照射處理工序，對上述配線基板材料照射波長220nm以下的紫外線；以及物理性振動處理工序，對經(jīng)過了該紫外線照射處理工序的配線基板材料施加物理性振動。
【IPC分類】H05K3-26
【公開號】CN104838732
【申請?zhí)枴緾N201380064293
【發(fā)明人】廣瀨賢一, 堀部大輝, 羽生智行, 遠(yuǎn)藤真一
【申請人】優(yōu)志旺電機(jī)株式會社
【公開日】2015年8月12日
【申請日】2013年12月26日
【公告號】WO2014104154A1