式，例如可以用無油壓縮氣體吹干，溫度為20-30°C，時間為5-10min，此為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，在此不再贅述。
[0036]本發(fā)明的方法中，對于油墨噴涂處理的條件沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種油墨噴涂處理的條件。優(yōu)選情況下，步驟(I)中，油墨噴涂處理的方式包括:噴涂UV油墨形成厚度為40-60um的油墨層，然后在110-120°C下烘烤20_30min，并在紫外線下曝光l_2min0
[0037]本發(fā)明的方法中，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，電子產(chǎn)品金屬殼體的正面是指組裝為成品電子產(chǎn)品時露在空氣中的電子產(chǎn)品金屬殼體的一面，背面則是與正面相對的一面。
[0038]本發(fā)明的方法中，優(yōu)選情況下，步驟(2)中，形成天線槽的過程包括:在經(jīng)步驟(I)處理所得產(chǎn)品的背面形成天線槽狹縫，使得至少去除背面油墨層和背面硬質(zhì)陽極氧化層，然后去除狹縫對應(yīng)部位的金屬層至露出正面硬質(zhì)陽極氧化層的內(nèi)側(cè)。
[0039]本發(fā)明的方法中，為了減少對電子產(chǎn)品金屬殼體結(jié)構(gòu)的破壞，保證電子產(chǎn)品金屬殼體的正面不會出現(xiàn)凸痕，進(jìn)一步提高牢固度及硬度，優(yōu)選情況下，步驟(2)中，在經(jīng)步驟
(I)處理所得產(chǎn)品的背面通過鐳雕形成天線槽狹縫，使得去除背面油墨層、背面硬質(zhì)陽極氧化層和部分金屬層，去除的部分金屬層的厚度為金屬層總厚度的0-40%，進(jìn)一步優(yōu)選為20-30%。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，當(dāng)去除的部分金屬層的厚度為金屬層總厚度的
0-10%時，為正常鐳雕；當(dāng)去除的部分金屬層的厚度為金屬層總厚度的10-40%時，為深度鐳雕(本發(fā)明中，需要說明的是，當(dāng)去除的部分金屬層的厚度為金屬層總厚度的10%時，為正常鐳雕)。
[0040]本發(fā)明的方法中，對于鐳雕的方法沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種鐳雕方法，例如可以用鐳雕機(jī)進(jìn)行鐳雕。優(yōu)選情況下，形成的天線槽狹縫的寬度為
0.05-0.1mm0
[0041]本發(fā)明的方法中，優(yōu)選情況下，步驟(2)中，通過蝕刻去除狹縫對應(yīng)部位的金屬層。對于蝕刻的條件沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種蝕刻條件。優(yōu)選情況下，蝕刻液為酸性蝕刻液。對于酸性蝕刻液沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種酸性蝕刻液，例如可以為三氯化鐵類酸性蝕刻液、氯化銅類酸性蝕刻液或鹽酸類酸性蝕刻液等。優(yōu)選地，步驟(2)中，蝕刻的條件包括:溫度為20-30°C，時間為30-40min，蝕刻液為含有三氯化鐵和鹽酸的水溶液，以IL蝕刻液計(jì)，三氯化鐵的含量為800-1000g，鹽酸的含量為35-75g。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，蝕刻的時間應(yīng)與鐳雕時去除的部分金屬層的厚度有關(guān)，鐳雕時去除的部分金屬層的厚度越大，則蝕刻的時間應(yīng)越短，反之，鐳雕時去除的部分金屬層的厚度越小，則蝕刻的時間應(yīng)越長。
[0042]本發(fā)明的方法中，以電子產(chǎn)品金屬殼體的背面所對應(yīng)的天線槽的開口為上部開口，天線槽的剖面結(jié)構(gòu)為上部開口大下部開口小的梯形結(jié)構(gòu)。其中，當(dāng)鐳雕天線槽狹縫為深度鐳雕時，經(jīng)蝕刻后形成的天線槽的上部開口的寬度為3-6mm，下部開口的寬度為
1-1.6mm;當(dāng)鐳雕天線槽狹縫為正常鐳雕時，經(jīng)蝕刻后形成的天線槽的上部開口的寬度為10-15mm，下部開口的寬度為2_3mm。
[0043]本發(fā)明的方法中，金屬層中可能會含有其他的金屬雜質(zhì)，如銅、錳等。因此，本發(fā)明的方法還可以包括，步驟(2)中，在蝕刻后進(jìn)行水洗，在水洗后進(jìn)行剝黑膜，去除裸露的黑色雜質(zhì)層，并再次進(jìn)行水洗。對于水洗的方法沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種水洗方法，例如可以為用去離子水清洗2-3次。
[0044]本發(fā)明的方法中，對于去除油墨層的方式?jīng)]有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種脫漆方式，只要能夠去除油墨層即可。優(yōu)選情況下，去除油墨層的方式為用中性脫漆劑去除油墨層。對于中性脫漆劑沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的各種中性脫漆劑，例如可以為普通溶劑型脫漆劑、氯化烴類脫漆劑和水性脫漆劑中的一種或多種。
[0045]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，本發(fā)明的方法還包括在去除油墨層之后、進(jìn)行填膠處理之前進(jìn)行水洗并烘干。對于烘干的方法沒有特別的限定，可以為本領(lǐng)域常用的烘干方法，優(yōu)選情況下，烘干的條件包括:溫度為80-120°C，時間為5-10min。
[0046]進(jìn)一步優(yōu)選地，對于填充非導(dǎo)電材料的方法和非導(dǎo)電材料沒有特別的限定，可以分別為本領(lǐng)域常用的各種填充非導(dǎo)電材料方法和非導(dǎo)電材料。優(yōu)選情況下，非導(dǎo)電材料為UV膠水、熱固化膠水和常溫硬化膠中的一種或多種。
[0047]本發(fā)明的方法中，優(yōu)選情況下，金屬層為鋁合金層。
[0048]本發(fā)明的方法中，優(yōu)選情況下，電子產(chǎn)品金屬殼體為手機(jī)金屬外殼或平板電腦金屬外殼。
[0049]第三方面，本發(fā)明提供了上述方法制備得到的電子產(chǎn)品金屬殼體。
[0050]實(shí)施例
[0051]以下的實(shí)施例將對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明，但并不因此限制本發(fā)明。
[0052]以下實(shí)施例中，0.5mm厚的5系鋁材購自福建省南平鋁業(yè)有限公司。
[0053]無鎳封孔劑、微量鎳封孔劑和無重金屬封孔劑均購自深圳歐得美科技有限公司。
[0054]氯化烴溶劑脫漆劑購自東莞市四輝表面處理科技有限公司。
[0055]UV膠水購自日本愛賽克公司(ASEC)，型號為AS-210604C。
[0056]鐳雕機(jī)購自深圳市光大激光技術(shù)有限公司，型號為FM20D。
[0057]實(shí)施例1
[0058]本實(shí)施例用于說明本發(fā)明的形成有天線槽的手機(jī)鋁合金殼體及其制備方法。
[0059](I)堿蝕處理:將招合金層I厚度為0.5mm的5系招材切割成5cm*3.5cm的招合金片，60°C下，將鋁合金片在濃度為40g/L的氫氧化鈉溶液中堿蝕1.5min，然后用去離子水清洗2次；
[0060](2)出光處理:25°C下，將步驟⑴得到的鋁合金片在出光液(以IL出光液計(jì)，65重量％的濃硝酸的量為300ml)中出光2min，然后用去離子水清洗2次；
[0061](3)氧化處理:將步驟(2)得到的鋁合金片放入氧化槽中，其中，10°C下，采用正向方波脈沖，占空比為80%，頻率為800Hz，電流密度為5A/dm2，將氧化槽中的鋁合金片通電硬質(zhì)氧化40min(以IL氧化液計(jì)，98重量％的硫酸的量為200g，草酸的量為15g，余量為水)，然后用去離子水清洗2次；
[0062](4)封孔處理:25°C下用無鎳封孔劑將步驟(3)得到的鋁合金片封孔2.5min，然后用去離子水清洗2次，25°C下用無油壓縮氣體吹干，形成厚度為35 μ m的硬質(zhì)陽極氧化層2 ；
[0063](5)油墨噴涂處理:在步驟⑷得到的鋁合金片表面噴涂UV油墨形成厚度為50 μ m的油墨層3，然后在115°C下烘烤25min，并在紫外線下曝光1.5min ；
[0064](6)在步驟(5)得到的鋁合金片的背面用鐳雕機(jī)鐳雕出寬度為0.07mm的深度鐳雕的天線槽狹縫4，去除背面的油墨層、硬質(zhì)陽極氧化層和占鋁合金層總厚度25%的鋁合金層；
[0065](7) 25°C下，用蝕刻液(以IL蝕刻液計(jì)，六水合三氯化鐵的量為900g、37重量％的鹽酸的量為150ml，余量為水)蝕刻狹縫對應(yīng)部位的鋁合金層35min，觀察發(fā)現(xiàn)正面的硬質(zhì)陽極氧化層已全部露出，然后用去離子水清洗2次，并剝除裸露的黑色雜質(zhì)層，再用去離子水清洗2次，得到剖面結(jié)構(gòu)為上部開口大下部開口小的梯形結(jié)構(gòu)的天線槽5，上部開口的寬度為4.5mm，下部開口的寬度為1.25mm ；
[0066](8)用氯化烴溶劑脫漆劑脫漆去除油墨層，用去離子水清洗2次，100°C下烘烤7min ；<