br>[0067](9)使用UV膠水對天線槽進(jìn)行填膠處理將狹縫充實。
[0068]本實施例中，鐳雕后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示，蝕刻后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示，去除油墨層后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示，鋁合金片經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化處理后(左圖)以及在油墨噴涂處理后(右圖)的圖片如圖4所示，鋁合金殼體鐳雕后的圖片如圖5所示，鋁合金殼體填膠后的正面圖如圖6所示。
[0069]本實施例的方法在鋁合金殼體中形成的天線槽外觀不可見，鋁合金殼體外觀面表層未曾遭到破壞，外觀面整潔光滑，能夠保持機(jī)身外觀的整潔性及連續(xù)性，并使得機(jī)身整體的金屬質(zhì)感不被破壞。
[0070]實施例2
[0071]本實施例用于說明本發(fā)明的形成有天線槽的手機(jī)鋁合金殼體及其制備方法。
[0072](I)堿蝕處理:將招合金層I厚度為0.5mm的5系招材切割成5cm*3.5cm的招合金片，50°C下，將鋁合金片在濃度為30g/L的氫氧化鉀溶液中堿蝕2min，然后用去離子水清洗2次；
[0073](2)出光處理:20°C下，將步驟(I)得到的鋁合金片在出光液(以IL出光液計，65重量％的濃硝酸的量為400ml)中出光lmin，然后用去離子水清洗2次；
[0074](3)氧化處理:將步驟(2)得到的鋁合金片放入氧化槽中，其中，5°C下，采用正向方波脈沖，占空比為50%，頻率為500Hz，電流密度為2A/dm2，將氧化槽中的鋁合金片通電硬質(zhì)氧化50min (以IL氧化液計，98重量％的硫酸的量為220g，草酸的量為20g，余量為水)，然后用去離子水清洗2次；
[0075](4)封孔處理:20°C下用微量鎳封孔劑將步驟(3)得到的鋁合金片封孔3min，然后用去離子水清洗2次，25°C下用無油壓縮氣體吹干，形成厚度為40 μ m的硬質(zhì)陽極氧化層2 ；
[0076](5)油墨噴涂處理:在步驟⑷得到的鋁合金片表面噴涂UV油墨形成厚度為40 μ m的油墨層3，然后在110°C下烘烤30min，并在紫外線下曝光Imin ；
[0077](6)在步驟(5)得到的鋁合金片的背面用鐳雕機(jī)鐳雕出寬度為0.05_的深度鐳雕的天線槽狹縫4，去除背面的油墨層、硬質(zhì)陽極氧化層和占鋁合金層總厚度20%的鋁合金層；
[0078](7) 20°C下，用蝕刻液(以IL蝕刻液計，六水合三氯化鐵的量為1000g、37重量％的鹽酸的量為200ml，余量為水)蝕刻狹縫對應(yīng)部位的鋁合金層30min，觀察發(fā)現(xiàn)正面的硬質(zhì)陽極氧化層已全部露出，然后用去離子水清洗2次，并剝除裸露的黑色雜質(zhì)層，再用去離子水清洗2次，得到剖面結(jié)構(gòu)為上部開口大下部開口小的梯形結(jié)構(gòu)的天線槽5，上部開口的寬度為5mm，下部開口的寬度為1.3mm ；
[0079](8)用氯化烴溶劑脫漆劑脫漆去除油墨層，用去離子水清洗2次，80°C下烘烤1min ；
[0080](9)使用UV膠水對天線槽進(jìn)行填膠處理將狹縫充實。
[0081]本實施例中，鐳雕后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、蝕刻后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、去除油墨層后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、鋁合金片經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化處理后(左圖)以及在油墨噴涂處理后(右圖)的圖片、鋁合金殼體鐳雕后的圖片以及鋁合金殼體填膠后的正面圖均與實施例1相一致。
[0082]本實施例的方法在鋁合金殼體中形成的天線槽外觀不可見，鋁合金殼體外觀面表層未曾遭到破壞，外觀面整潔光滑，能夠保持機(jī)身外觀的整潔性及連續(xù)性，并使得機(jī)身整體的金屬質(zhì)感不被破壞。
[0083]實施例3
[0084]本實施例用于說明本發(fā)明的形成有天線槽的平板電腦鋁合金殼體及其制備方法。
[0085](I)堿蝕處理:將招合金層I厚度為0.5mm的5系招材切割成5cm*3.5cm的招合金片，70°C下，將鋁合金片在濃度為60g/L的氫氧化鉀溶液中堿蝕lmin，然后用去離子水清洗2次；
[0086](2)出光處理:30°C下，將步驟(I)得到的鋁合金片在出光液(以IL出光液計，65重量％的濃硝酸的量為200ml)中出光3min，然后用去離子水清洗2次；
[0087](3)氧化處理:將步驟(2)得到的鋁合金片放入氧化槽中，其中，12°C下，采用正向方波脈沖，占空比為90%，頻率為1000Hz，電流密度為7A/dm2，將氧化槽中的鋁合金片通電硬質(zhì)氧化30min (以IL氧化液計，98重量％的硫酸的量為120g，草酸的量為8g，余量為水)，然后用去離子水清洗2次；
[0088](4)封孔處理:30°C下用無重金屬封孔劑將步驟(3)得到的鋁合金片封孔2min，然后用去離子水清洗2次，25°C下用無油壓縮氣體吹干，形成厚度為50um的硬質(zhì)陽極氧化層2 ；
[0089](5)油墨噴涂處理:在步驟⑷得到的鋁合金片表面噴涂UV油墨形成厚度為60 μ m的油墨層3，然后在120°C下烘烤20min，并在紫外線下曝光2min ；
[0090](6)在步驟(5)得到的鋁合金片的背面用鐳雕機(jī)鐳雕出寬度為0.1mm的深度鐳雕的天線槽狹縫4，去除背面的油墨層、硬質(zhì)陽極氧化層和占鋁合金層總厚度30%的鋁合金層；
[0091](7)30°C下，用蝕刻液(以IL蝕刻液計，六水合三氯化鐵的量為800g、37重量％的鹽酸的量為100ml，余量為水)蝕刻狹縫對應(yīng)部位的鋁合金層40min，觀察發(fā)現(xiàn)正面的硬質(zhì)陽極氧化層已全部露出，然后用去離子水清洗2次，并剝除裸露的黑色氧化膜，再用去離子水清洗2次，得到剖面結(jié)構(gòu)為上部開口大下部開口小的梯形結(jié)構(gòu)的天線槽5，上部開口的寬度為4mm，下部開口的寬度為1.2mm ；
[0092](8)用氯化烴溶劑脫漆劑脫漆去除油墨層，用去離子水清洗2次，120°C下烘烤5min ；
[0093](9)使用UV膠水對天線槽進(jìn)行填膠處理將狹縫充實。
[0094]本實施例中，鐳雕后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、蝕刻后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、去除油墨層后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、鋁合金片經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化處理后(左圖)以及在油墨噴涂處理后(右圖)的圖片、鋁合金殼體鐳雕后的圖片以及鋁合金殼體填膠后的正面圖均與實施例1相一致。
[0095]本實施例的方法在鋁合金殼體中形成的天線槽外觀不可見，鋁合金殼體外觀面表層未曾遭到破壞，外觀面整潔光滑，能夠保持機(jī)身外觀的整潔性及連續(xù)性，并使得機(jī)身整體的金屬質(zhì)感不被破壞。
[0096]實施例4
[0097]按照實施例1的方法，不同的是，步驟(6)中，去除背面的油墨層、硬質(zhì)陽極氧化層和占鋁合金層總厚度15%的鋁合金層。
[0098]本實施例中，鐳雕后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、蝕刻后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、去除油墨層后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、鋁合金片經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化處理后(左圖)以及在油墨噴涂處理后(右圖)的圖片、鋁合金殼體鐳雕后的圖片以及鋁合金殼體填膠后的正面圖均與實施例1相一致，其中，形成的天線槽的上部開口的寬度為6mm，下部開口的寬度為1.5mm。
[0099]本實施例的方法在鋁合金殼體中形成的天線槽外觀不可見，鋁合金殼體外觀面表層未曾遭到破壞，外觀面整潔光滑，能夠保持機(jī)身外觀的整潔性及連續(xù)性，并使得機(jī)身整體的金屬質(zhì)感不被破壞。
[0100]實施例5
[0101]按照實施例1的方法，不同的是，步驟(6)中，去除背面的油墨層、硬質(zhì)陽極氧化層和占鋁合金層總厚度5 %的鋁合金層。
[0102]本實施例中，鐳雕后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖如圖7所示，而蝕刻后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、去除油墨層后鋁合金殼體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖、鋁合金片