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      線圈盤支架、線圈盤和電磁爐的制作方法_2

      文檔序號:10424901閱讀:來源:國知局
      12上開設有磁條安裝孔122,散熱通孔121與磁條安裝孔122錯開布置。
      [0044]上述實施例中,散熱通孔121與外環(huán)擋圈12上開設的磁條安裝孔122錯開布置,有效保證外環(huán)擋圈12的強度,從而保證外環(huán)擋圈12與底部支架11配合后形成的線圈盤支架10的強度,避免在線圈盤支架10外圍頂部磁條避空位置增加散熱缺口而導致降低線圈盤支架10強度的情況發(fā)生。
      [0045]進一步地,如圖3至圖5所示,底部支架11上設有第一固定耳111,外環(huán)擋圈12上設有與第一固定耳111對應的第二固定耳123,散熱通孔121與第二固定耳123錯開布置。
      [0046]上述實施例中,散熱通孔121與外環(huán)擋圈12上設有的第二固定耳123錯開設置,有效保證外環(huán)擋圈12與底部支架11通過第一固定耳111和第二固定耳123固定連接時的強度。
      [0047]再進一步地,如圖4所示,外環(huán)擋圈12上開設有多個散熱通孔121,多個散熱孔沿外環(huán)擋圈12的周向布置。
      [0048]上述實施例中,外環(huán)擋圈12的周向設置有多個散熱通孔121,以通過多個散熱通孔121對線圈盤外環(huán)的不同位置進行散熱,保證散熱的均勻性。
      [0049]本實用新型的一個具體實施例中,如圖2所示,散熱通孔121為矩形孔,當然,如圖6所示,散熱通孔121也可以為鍵槽形的通孔。
      [0050]上述實施例中,如圖2所示,散熱通孔121為矩形孔,優(yōu)選地,矩形孔的兩相對的側壁面與外環(huán)擋圈12的上端面或下端面平行,以保證在不影響外環(huán)擋圈12強度的同時,盡量增大散熱通孔121的尺寸,以進一步提升通過散熱通孔121進行散熱的效果。
      [0051]當然,如圖6所示,散熱通孔121也可以為鍵槽形的通孔;散熱通孔121還可以為其它形狀如圓形、橢圓形等,均能夠起到良好的散熱效果。
      [0052]優(yōu)選地,如圖2所示,散熱通孔121的高度Hl大于或等于2mm、且小于外環(huán)擋圈12的厚度H2。
      [0053]上述實施例中,合理設計散熱通孔121的高度,以在保證散熱通孔121具有良好的散熱效果,并減少塑膠用量的同時,不影響外環(huán)擋圈12的強度,具體地,散熱通孔121的高度小于2mm,起不到良好的散熱效果,并且不利于塑膠用量的減少,散熱通孔121的高度等于外環(huán)擋圈12的高度,即散熱通孔121貫穿外環(huán)擋圈12的上下端面,這樣會對外環(huán)擋圈12的強度造成較大影響。
      [0054]進一步優(yōu)選地,如圖2所示,散熱通孔121的寬度H3大于或等于2mm。
      [0055]上述實施例中,散熱通孔121的寬度大于或等于2mm,以在保證散熱通孔121具有良好的散熱效果,并減少塑膠用量,若散熱通孔121的寬度小于2mm,起不到良好的散熱效果,并且不利于于塑膠用量的減少,因此應該在不影響外環(huán)擋圈12強度的情況下,適當增大散熱通孔121的寬度。當然,散熱通孔121的尺寸,也可根據(jù)實際情況自行設定。
      [0056]本實用新型的一個實施例中,如圖4所示,所述外環(huán)擋圈12與所述底部支架11分體設置,外環(huán)擋圈12上設有卡接部124,底部支架11上設有與卡接部相配合的卡接配合部(圖中未示出),通過分體設置,可以方便繞制密繞線圈繞組20,再通過卡接部124和卡接配合部的配合,實現(xiàn)將外環(huán)擋圈12牢固地固定在底部支架11上,結構簡單,操作方便,固定可靠。
      [0057]本實用新型的另一個實施例中,外環(huán)擋圈12通過環(huán)氧樹脂固定在底部支架11上,采用環(huán)氧樹脂等固定膠將外環(huán)擋圈12粘接在底部支架11上,同樣能夠有效保證外環(huán)擋圈12與底部支架11固定的牢固性,并且結構簡單,操作方便。
      [0058]本實用新型的第二個方面的實施例提供了一種線圈盤I,如圖1和圖2所示,包括:磁條、密繞線圈繞組20和上述任一實施例所述的線圈盤支架10,磁條和密繞線圈繞組20均安裝在線圈盤支架10上,由于密繞線圈繞組20內(nèi)部直接的熱傳導明顯,散熱通孔121對密繞線圈繞組20的散熱效果更加顯著,并且線圈盤I具有上述任一實施例所述的線圈盤支架10的有益效果,在此不再贅述。
      [0059]需要說明的是,線圈盤支架的底部支架和外環(huán)擋圈可先通過卡扣固定,然后通過環(huán)氧樹脂或者其它膠與線圈繞組固定;也可以將線圈盤支架的底部支架和外環(huán)擋圈直接通過環(huán)氧樹脂或者其它膠固定。
      [0060]本實用新型的第三個方面的實施例提供了一種電磁爐(圖中未示出),包括上述實施例所述的線圈盤I,并具有上述實施例所述的線圈盤的有益效果,在此不再贅述。
      [0061]綜上所述,本實用新型提供的線圈盤支架,采用底部支架和外環(huán)擋圈組合而成,且外環(huán)擋圈增加徑向貫通其周壁的散熱通孔,散熱通孔與外環(huán)擋圈上的磁條安裝孔和第二固定耳錯開布置,這樣可以有效改善繞制在線圈盤支架上的外環(huán)密繞線圈繞組散熱效果差的問題,降低外環(huán)密繞線圈繞組的溫升,從而保證線圈盤工作的可靠性,延長了線圈盤的使用壽命;并且還可以有效減少塑膠的用量,降低生產(chǎn)成本,同時外環(huán)擋圈與底部支架配合后,能夠有效保證線圈盤支架的強度。
      [0062]在本實用新型的描述中,術語“多個”是指兩個或者兩個以上。
      [0063]在本說明書的描述中,術語“一些實施例”、“一個實施例”、“具體實施例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或特點包含于本實用新型的至少一個實施例或示例中。在本說明書中,對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或實例。而且,描述的具體特征、結構、材料或特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。
      [0064]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已,并不用于限制本實用新型,對于本領域的技術人員來說,本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
      【主權項】
      1.一種線圈盤支架,其特征在于,包括: 底部支架;和 外環(huán)擋圈,所述外環(huán)擋圈安裝在所述底部支架上,所述外環(huán)擋圈上開設有散熱通孔,所述散熱通孔徑向貫穿所述外環(huán)擋圈的周壁。2.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述外環(huán)擋圈上開設有磁條安裝孔,所述散熱通孔與所述磁條安裝孔錯開布置。3.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述底部支架上設有第一固定耳,所述外環(huán)擋圈上設有與所述第一固定耳對應的第二固定耳,所述散熱通孔與所述第二固定耳錯開布置。4.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述外環(huán)擋圈上開設有多個所述散熱通孔,多個所述散熱孔沿所述外環(huán)擋圈的周向布置。5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述散熱通孔為矩形孔或鍵槽孔。6.根據(jù)權利要求5所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述散熱通孔的高度大于或等于2_、且小于所述外環(huán)擋圈的厚度。7.根據(jù)權利要求5所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述散熱通孔的寬度大于或等于2_。8.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的線圈盤支架,其特征在于, 所述外環(huán)擋圈與所述底部支架分體設置,所述外環(huán)擋圈上設有卡接部,所述底部支架上設有與所述卡接部相配合的卡接配合部;或, 所述外環(huán)擋圈通過環(huán)氧樹脂固定在所述底部支架上。9.一種線圈盤,其特征在于,包括: 磁條; 密繞線圈繞組;和 如權利要求1至8中任一項所述的線圈盤支架,所述磁條和所述密繞線圈繞組均安裝在所述線圈盤支架上。10.—種電磁爐,其特征在于,包括如權利要求9所述的線圈盤。
      【專利摘要】本實用新型提供了一種線圈盤支架、線圈盤和電磁爐。其中,線圈盤支架包括:底部支架和外環(huán)擋圈,外環(huán)擋圈安裝在底部支架上,外環(huán)擋圈上開設有散熱通孔,散熱通孔徑向貫穿外環(huán)擋圈的周壁。本實用新型提供的線圈盤支架,采用底部支架和外環(huán)擋圈組合而成,且外環(huán)擋圈增加貫通其周壁的散熱通孔,這樣可以有效改善繞制在線圈盤支架上的外環(huán)線圈散熱效果差的問題,降低外環(huán)線圈的溫升,從而保證線圈盤工作的可靠性,延長了線圈盤的使用壽命;并且還可以有效減少塑膠的用量,降低生產(chǎn)成本,同時外環(huán)擋圈與底部支架配合后,能夠有效保證線圈盤支架的強度。
      【IPC分類】H05B6/36
      【公開號】CN205336570
      【申請?zhí)枴緾N201620032297
      【發(fā)明人】范吉昌, 任玉潔, 蒙劍友
      【申請人】佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
      【公開日】2016年6月22日
      【申請日】2016年1月12日
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