干式指紋清洗裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種干式指紋清洗裝置，更詳細而言，涉及一種如下的干式指紋清洗裝置:通過利用超聲波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等離子的清洗，并使用干式清洗方法去除形成在被清洗基板表面上的指紋等污染物。
【背景技術】
[0002]顯示器元件中使用的玻璃基板及塑料基板等具有不允許任何對其表面的污染的特性。但是，在操作過程中有可能在基板表面發(fā)生各種污染，因此必須伴隨針對所述污染的徹底的清洗操作。
[0003]在這些基板污染源中，最難清洗的是操作者在手動操作中產生的指紋。形成在基板的指紋非常難以去除，因此大部分情況下利用強力清洗劑等化學物質來進行濕式清洗操作。
[0004]然而，如果以這種濕式清洗方法來去除指紋，則存在清洗及干燥等操作變得復雜、且所需的操作時間長的問題，而且，由于清洗液處理等原因，有可能導致環(huán)境污染的問題。
[0005]因此，迫切需要開發(fā)能夠簡單且迅速處理形成在基板上指紋的干式清洗技術。

【發(fā)明內容】

[0006]發(fā)明要解決的問題
[0007]本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種干式指紋清洗裝置，所述干式指紋清洗裝置，通過利用超聲波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等離子的清洗，并使用被干式清洗方法去除形成在清洗基板表面的指紋等污染物。
[0008]解決問題的方法
[0009]為解決上述的技術課題的本發(fā)明的式指紋清洗裝置包括:基板搬送部，使被清洗基板朝向一側方向移動；超聲波清洗部，設置于所述基板搬送部的入口上側，用于使用超聲波清洗通過所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，與所述超聲波清洗部相鄰而設置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等離子清洗部，與所述清洗液清洗部相鄰而設置，用于通過對所述被清洗基板的上表面噴射等離子來進行清洗。
[0010]另外，優(yōu)選地，本發(fā)明的所述基板搬送部包括:一對旋轉滾筒，設置于所述基板搬送部的兩側端部；輸送機，均勻地形成有多個吸附孔，用于在卷繞在所述一對旋轉滾筒的狀態(tài)下隨著履帶轉動，同時使所述被清洗基板水平移動；真空吸附模塊，設置于所述基板搬送部中的所述清洗液清洗部的下側，用于通過真空吸附所述輸送機的下表面，吸附安裝在所述輸送機的上表面上的清洗用基板的下表面。
[0011]另外，優(yōu)選地，本發(fā)明的所述清洗液清洗部包括:清洗毛巾供應輥，設置于所述真空吸附模塊的上側，用于在卷繞清洗毛巾的狀態(tài)下供應清洗毛巾；清洗毛巾回收輥，與所述清洗毛巾供應輥相鄰而設置，用于卷繞并回收已使用過的清洗毛巾；加壓滾筒，設置于所述清洗毛巾供應輥和清洗毛巾回收輥之間，用于通過向所述清洗用基板的上表面方向對所述清洗毛巾進行加壓，使所述清洗毛巾與所述清洗用基板上表面相接觸；清洗液噴射部，設置于所述加壓滾筒的前方，用于對所述清洗毛巾噴射清洗液；往復驅動部，用于在前后方向上往復驅動所述清洗液清洗部。
[0012]另外，優(yōu)選地，本發(fā)明的所述清洗液是異丙醇(IPA:1so Propyl Alcohol)。
[0013]另外，優(yōu)選地，本發(fā)明的所述加壓滾筒由具有伸縮性的發(fā)泡硅材質構成。
[0014]另外，優(yōu)選地，本發(fā)明的所述等離子清洗部是常壓氬等離子噴射裝置。
[0015]發(fā)明效果
[0016]根據(jù)本發(fā)明的干式指紋清洗裝置，能夠使用干式清洗方法迅速且簡單去除形成在被清洗基板上的指紋，因此具有環(huán)保且工藝效率高的優(yōu)點。
【附圖說明】
[0017]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一實施例的干式指紋清洗裝置的構成的圖。
[0018]圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的一實施例的輸送機及搭載于該輸送機的被清洗基板的狀態(tài)的圖。
[0019]圖3是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的輸送機的部分剖面圖。
[0020]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的一實施例的真空吸附模塊的結構的立體圖。
[0021]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的一實施例的加壓滾筒及清洗毛巾的清洗操作狀態(tài)的圖。
[0022]附圖標記說明
[0023]1:被清洗基板
[0024]100:根據(jù)本發(fā)明一實施例的干式指紋清洗裝置
[0025]110:基板搬送部
[0026]120:超聲波清洗部
[0027]130:清洗液清洗部
[0028]140:等離子清洗部
【具體實施方式】
[0029]以下，參考附圖，對本發(fā)明的具體實施例進行詳細的說明。
[0030]如圖1所示，根據(jù)本實施例的干式指紋清洗裝置100包括基板搬送部110、超聲波清洗部120、清洗液清洗部130及等離子清洗部140。
[0031]首先，所述基板搬送部110用于使將要進行清洗工藝的被清洗基板I向一側方向以規(guī)定的速度移動。因此，被清洗基板I通過所述基板搬送部110以規(guī)定的速度進行移動，同時經(jīng)過各清洗區(qū)域。為此，如圖1所示，具體地，本實施例的所述基板搬送部110可以包括旋轉滾筒111、112，輸送機113，真空吸附模塊115。在此，如圖1所示，在所述基板搬送部110的兩側端部分別設置一對所述旋轉滾筒111、112，并且所述旋轉滾筒111、112具有可以自體旋轉驅動的結構。并且，所述一對旋轉滾筒111、112在整個區(qū)間以規(guī)定間隔隔開而配置，該整個區(qū)間是指所述被清洗基板I在工藝過程中將要移動的區(qū)間。
[0032]其次，如圖1所示，所述輸送機113卷繞在所述一對旋轉滾筒111、112上的狀態(tài)下隨著履帶轉動，同時使所述被清洗基板I水平移動。因此，如圖2所示，使被清洗基板I以規(guī)定的矩陣排列的方式裝載在所述輸送機113上并水平移動。
[0033]此時，如圖2、3所示，在所述輸送機113形成有以規(guī)定間隔配置的多個吸附孔114。如圖5所示，該吸附孔114與后述的真空吸附模塊115 —起吸附安裝于這些上面的被清洗基板1，以使其不發(fā)生動彈。優(yōu)選地，所述吸附孔114的直徑很小，并多個吸附孔114在輸送機113的整個面上以規(guī)定間隔均勻形成。
[0034]其次，如圖1、5所示，所述真空吸附模塊115設置在所述基板搬送部110中的所述清洗液清洗部130的下側，真空吸附所述輸送機113的下面，從而吸附安裝在所述輸送機113的上面的清洗用基板I的下面。即，本實施例中，在所述輸送機113以規(guī)定速度水平移動的期間，所述真空吸附模塊115仍利用形成在所述輸送機的吸附孔114來吸附固定被清洗基板I。
[0035]因此，優(yōu)選地，使所述輸送機113在所述真空吸附模塊115表面上以不存在摩擦力的方式容易滑動。因此，所述輸送機113的背面可以形成有降低摩擦力的涂層面。另外，所述輸送機113的背面需要與所述真空吸附模塊115的表面無縫隙地緊貼，這樣才能使真空的漏泄得以最小化。
[0036]另一方面，本實施例中，如圖4所示，具體地，所述真空吸附模塊115整體呈長方體的桶裝而形成，上面形成多個真空吸附孔116。此時，優(yōu)選地，所述真空吸附孔116以沿著與所述輸送機113的水平移動方向相同的方向窄而長的方式形成，這樣，不僅能夠防止所述輸送機113的變形，還能夠在所述輸送機113水平移動的情況下也保持對被清洗基板I的吸附力。
[0037]另外，如圖4所示，優(yōu)選地，所述真空吸附孔116平行地配置多列，配置在相鄰列上的真空吸附