孔互相交錯配置，這樣，能夠持續(xù)保持對特定的被清洗基板I的真空吸附力。
[0038]并且，如圖4所示，在所述真空吸附模塊115的一側(cè)設(shè)置有排出部117，用于吸取并排出其內(nèi)部氣體。
[0039]其次，如圖1所示，所述超聲波清洗部120設(shè)置于所述基板搬送部110的入口上偵牝用超聲波清洗通過所述基板搬送部110搬送的被清洗基板I的上面。本實施例中，所述超聲波清洗部120具有徹底去除存在于被清洗基板I表面的顆粒(particle)等的功能，在接著的清洗液清洗部130執(zhí)行利用清洗毛巾揉擦動作時，防止被清洗基板I的表面被顆粒等劃傷的現(xiàn)象。
[0040]其次，如圖1所示，所述清洗液清洗部130與所述超聲波清洗部120相鄰而設(shè)置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾136揉擦所述被清洗基板I的上面而進行清洗。為此，本實施例中，所述清洗液清洗部130具體可以包括清洗毛巾供應(yīng)輥131、清洗毛巾回收輥132、加壓滾筒133、清洗液噴射部134及往復(fù)驅(qū)動部135。
[0041]首先，如圖1所示，所述清洗毛巾供應(yīng)輥131設(shè)置于所述真空吸附模塊115的上偵牝在卷繞沒使用過的干凈的清洗毛巾136的狀態(tài)下供應(yīng)清洗毛巾。并且，所述清洗毛巾回收輥132與所述清洗毛巾供應(yīng)輥131相鄰而設(shè)置，用于卷繞并回收使用過的清洗毛巾136。所述清洗毛巾供應(yīng)輥131和清洗毛巾回收輥132的驅(qū)動控制可以通過多種方法執(zhí)行，例如，可以采用如下方法:當(dāng)通過所述加壓滾筒133已經(jīng)充分使用了清洗毛巾136的一部分時，通過旋轉(zhuǎn)所述清洗毛巾回收輥133來將清洗毛巾136的新的部分卷繞在所述加壓滾筒133上。
[0042]其次，如圖1所示，所述加壓滾筒133設(shè)置在所述清洗毛巾供應(yīng)輥131和清洗毛巾回收輥132之間，用于朝向所述清洗用基板I的上表面方向?qū)λ銮逑疵?36進行加壓，從而使所述清洗毛巾136與所述清洗用基板I的上表面相接觸。即，為了物理清洗所述被清洗基板I的表面，所述加壓滾筒133向所述被清洗基板I方向?qū)λ銮逑疵?36進行加壓。
[0043]此時，為了使所述清洗毛巾136和被清洗基板I的接觸面積最大化、使被清洗基板的I的整個面均勻受力，如圖5所示，所述加壓滾筒133優(yōu)選由具有伸縮性的材料所構(gòu)成。如此，如果所述加壓滾筒133由具有伸縮性的材料構(gòu)成，則在加壓過程中所述加壓滾筒133被按壓的同時其一部分以所述被清洗基板I的形狀展開，由此增大接觸面積。
[0044]因此，本實施例的所述加壓滾筒133優(yōu)選由具有伸縮性的發(fā)泡硅材質(zhì)構(gòu)成。
[0045]其次，如圖1所示，所述清洗液噴射部134設(shè)置于所述加壓滾筒133的前方，用于對所述清洗毛巾136噴射清洗液。在本實施例中，不直接將清洗液噴射到被清洗基板I的表面，而是噴射到清洗毛巾136，用清洗液沾在清洗毛巾136而處于浸濕狀態(tài)的清洗毛巾136揉擦被清洗基板I表面來進行清洗。因此，沾在被清洗基板I的清洗液的量得以最小化，可以維持干式狀態(tài)下能夠迅速執(zhí)行清洗過程。
[0046]本實施例中，所述清洗液優(yōu)選為異丙醇(IPA:1so Propyl Alcohol)，所述清洗液噴射部134可以具有朝向所述清洗毛巾136方向噴射清洗液的多種結(jié)構(gòu)，例如可以是狹縫噴嘴結(jié)構(gòu)。
[0047]其次，如圖1所示，所述往復(fù)驅(qū)動部135用于使包括所述清洗毛巾供應(yīng)輥131、清洗毛巾回收輥132、加壓滾筒133及清洗液噴射部134的整個清洗液清洗部130朝向所述被清洗基板I的移動方向相同的方向進行往復(fù)驅(qū)動。當(dāng)清洗毛巾136通過所述加壓滾筒133與被清洗基板I接觸的狀態(tài)下驅(qū)動所述往復(fù)驅(qū)動部135時，如圖5所示，清洗毛巾136與所述被清洗基板I的表面進行來回接觸的同時順暢進行清洗操作。具體而言，所述清洗毛巾供應(yīng)輥131、清洗毛巾回收輥132、加壓滾筒133及清洗液噴射部134設(shè)置于一個區(qū)塊137，所述區(qū)塊137可以具有使所述往復(fù)驅(qū)動部135水平移動的結(jié)構(gòu)。
[0048]接著，如圖1所示，所述等離子清洗部140與所述清洗液清洗部130相鄰而設(shè)置，對所述被清洗基板I的上面噴射等離子來進行清洗。通過所述等離子清洗部140徹底去除殘存于所述被清洗基板I的清洗毛巾的痕跡等。此時，本實施例中所述等離子清洗部140優(yōu)選由常壓氬等離子噴射裝置構(gòu)成，這樣可以使清洗效果得以極大化。
【主權(quán)項】
1.一種干式指紋清洗裝置，其包括: 基板搬送部，使被清洗基板朝向一側(cè)方向移動； 超聲波清洗部，設(shè)置于所述基板搬送部的入口上側(cè)，用于使用超聲波清洗通過所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面； 清洗液清洗部，與所述超聲波清洗部相鄰而設(shè)置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面； 等離子清洗部，與所述清洗液清洗部相鄰而設(shè)置，用于通過對所述被清洗基板的上表面噴射等離子來進行清洗。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式指紋清洗裝置，其中，所述基板搬送部包括: 一對旋轉(zhuǎn)滾筒，設(shè)置于所述基板搬送部的兩側(cè)端部； 輸送機，均勻地形成有多個吸附孔，用于在卷繞在所述一對旋轉(zhuǎn)滾筒的狀態(tài)下隨著履帶轉(zhuǎn)動，同時使所述被清洗基板水平移動； 真空吸附模塊，設(shè)置于所述基板搬送部中的所述清洗液清洗部的下側(cè)，用于通過真空吸附所述輸送機的下表面，吸附安裝在所述輸送機的上表面上的清洗用基板的下表面。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干式指紋清洗裝置，其中，所述清洗液清洗部包括: 清洗毛巾供應(yīng)輥，設(shè)置于所述真空吸附模塊的上側(cè)，用于在卷繞清洗毛巾的狀態(tài)下供應(yīng)清洗毛巾； 清洗毛巾回收輥，與所述清洗毛巾供應(yīng)輥相鄰而設(shè)置，用于卷繞并回收已使用過的清洗毛巾； 加壓滾筒，設(shè)置于所述清洗毛巾供應(yīng)輥和清洗毛巾回收輥之間，用于通過向所述清洗用基板的上表面方向?qū)λ銮逑疵磉M行加壓，使所述清洗毛巾與所述清洗用基板上表面相接觸； 清洗液噴射部，設(shè)置于所述加壓滾筒的前方，用于對所述清洗毛巾噴射清洗液； 往復(fù)驅(qū)動部，用于在前后方向上往復(fù)驅(qū)動所述清洗液清洗部。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干式指紋清洗裝置，其特征在于，所述清洗液是異丙醇(IPA:1so Propyl Alcohol)。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干式指紋清洗裝置，其特征在于，所述加壓滾筒由具有伸縮性的發(fā)泡硅材質(zhì)構(gòu)成。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式指紋清洗裝置，其特征在于，所述等離子清洗部是常壓氬等離子噴射裝置。
【專利摘要】本發(fā)明是涉及一種干式指紋清洗裝置，所述干式指紋清洗裝置，通過利用超聲波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等離子的清洗，并使用干式清洗方法去除形成在被清洗基板表面上的指紋等污染物。本發(fā)明的干式指紋清洗裝置包括：基板搬送部，使被清洗基板朝向一側(cè)方向移動；超聲波清洗部，設(shè)置于所述基板搬送部的入口上側(cè)，用于使用超聲波清洗通過所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，與所述超聲波清洗部相鄰而設(shè)置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等離子清洗部，與所述清洗液清洗部相鄰而設(shè)置，用于通過對所述被清洗基板的上表面噴射等離子來進行清洗。
【IPC分類】B08B3/08, B08B3/12, B08B7/04, B08B13/00, B08B1/00, B08B7/00
【公開號】CN105665376
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】全炳俊
【申請人】Mak股份有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2014年11月17日