和其對應(yīng)的輸送管插接口處插入一第一氣體輸送管，所述第一氣體輸送管與所述小孔和所述輸送管插接口連接處密封設(shè)置；
[0030]在所述隔離板上方一定距離設(shè)置一頂板，所述頂板與所述隔離板之間形成第一氣體擴散區(qū)域。
[0031]優(yōu)選的，在制作氣體輸送板時，設(shè)置所述氣體輸送板靠近邊緣區(qū)域的第一氣體擴散槽和第二氣體擴散槽的槽深度大于靠近中心區(qū)域的第一氣體擴散槽和第二氣體擴散槽的槽深度。
[0032]優(yōu)選的，制作氣體輸送板下表面時，設(shè)置所述縱長形氣體導(dǎo)流條的下表面為向下凸起的弧形表面或向上凹進的弧形表面。
【附圖說明】
[0033]通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施方式所作的詳細描述，本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點將會變得更明顯:
[0034]圖1示出本發(fā)明所提供的一種反應(yīng)器的前視橫載面示意圖；
[0035]圖2示出一種實施例反應(yīng)氣體輸送裝置的前視橫截面示意圖；
[0036]圖3示出圖2所示實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖；
[0037]圖4示出圖2所述實施例的仰視圖；
[0038]圖5 TJK出一種實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面TJK意圖；
[0039]圖6 TJK出一種實施例反應(yīng)氣體輸送裝置的前視橫截面TJK意圖；
[0040]圖7示出圖6所示實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖；
[0041]圖8 TJK出一種實施例反應(yīng)氣體輸送裝置的前視橫截面TJK意圖；
[0042]圖9示出圖8所示實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖；
[0043]圖10示出圖9所述實施例的變形實施例；
[0044]圖11 TJK出一種實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面TJK意圖；
[0045]圖12 TJK出一種實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面TJK意圖；
[0046]圖13示出圖11所述實施例的示意圖。
【具體實施方式】
[0047]圖1示出根據(jù)本發(fā)明實施方式所提供的一種反應(yīng)器的前視橫載面示意圖。所述反應(yīng)器可以用于化學(xué)氣相沉積或外延層生長，但應(yīng)當(dāng)理解，其并不限于此類應(yīng)用。
[0048]所述反應(yīng)器10包括圍成反應(yīng)腔的外壁11以及一頂壁12，反應(yīng)器10內(nèi)設(shè)置至少一個基片承載架15和用于支撐所述基片承載架15的支撐裝置16，在化學(xué)氣相沉積或外延層生長反應(yīng)器中，支撐裝置16可以帶動基片承載架15旋轉(zhuǎn)，以實現(xiàn)沉積工藝或外延層生長工藝的順利進行。在基片承載架15上方，頂壁12下方設(shè)置一反應(yīng)氣體輸送裝置100，反應(yīng)氣體輸送裝置100用于將至少兩組不同的反應(yīng)氣體分別輸送到反應(yīng)器10內(nèi)的處理區(qū)域內(nèi)混合反應(yīng)，并確保兩組不同的反應(yīng)氣體在進入處理區(qū)域之前互相隔離。
[0049]圖2、圖3及圖4不出本發(fā)明一種實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置,其設(shè)置于如圖1所示的用于化學(xué)氣相沉積或外延層生長的反應(yīng)器10內(nèi)，其中圖2為本實施例反應(yīng)氣體輸送裝置的前視橫截面示意圖，圖3為本實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖，圖4為反應(yīng)氣體輸送裝置的仰視圖，反應(yīng)氣體輸送裝置包括位于一主體部20。在圖2和圖3所示的反應(yīng)氣體輸送裝置中可清晰地看出，該反應(yīng)氣體輸送裝置100自上而下依次包括一頂板130、隔離板120和氣體輸送板110，其中，頂板130和隔離板120相互間隔而于二者之間形成第一氣體擴散區(qū)域128，隔離板120和氣體輸送板110相互間隔而于二者之間形成第二氣體擴散區(qū)域118。第一氣體擴散區(qū)域128與圖1中的第一氣體源101相連接，用于提供第一反應(yīng)氣體注入，第二氣體擴散區(qū)域118與圖1中的第二氣體源102相連接，用于提供第二反應(yīng)氣體注入。
[0050]氣體輸送板110為一體形成之板體結(jié)構(gòu),其包括一上表面IlOa和一下表面IlOb,上表面IlOa上沿某一水平方向(如沿圖示X軸方向)向下表面IlOb方向開鑿設(shè)有一定深度的相互平行排列的多個縱長形第一氣體擴散槽111和多個縱長形第二氣體擴散槽112，并且每一第一氣體擴散槽111和每一第二氣體擴散槽112相互平行且相互穿插間隔排列設(shè)置，它們相互間隔的距離可以是某一預(yù)設(shè)距離，并且該間隔的距離可以視情況定為相同或不相同。每一第一氣體擴散槽111下方還開設(shè)連接有一縱長形第一氣體出氣通道1111并且二者相連通，每一第二氣體擴散槽112下方還開設(shè)連接有一縱長形第二氣體出氣通道1121并且二者相連通，分別用于將第一氣體和第二氣體輸送到處理區(qū)域內(nèi)。相鄰的第一氣體出氣通道1111和第二氣體出氣通道1121之間設(shè)置有或形成有一個縱長形的氣體導(dǎo)流條50，每一氣體導(dǎo)流條50的下表面為具有一定弧度的表面110b。沿著每一氣體導(dǎo)流條50的縱長方向，在每一氣體導(dǎo)流條50內(nèi)設(shè)置一個或多個縱長形的冷卻管道116，冷卻管道116至少包括一個冷卻液入口 1161 (圖1所不)和一個冷卻液出口 1162(圖1所不)，通過冷卻液的循環(huán)流動，控制氣體輸送板110的溫度，使得反應(yīng)工藝穩(wěn)定均勻，同時可以避免第一反應(yīng)氣體和第二反應(yīng)氣體在氣體輸送板110的下表面IlOb上進行沉積反應(yīng)，生成沉積污染物。
[0051]在本實施例中，為了保證氣體流動的均勻性，每一個氣體導(dǎo)流條50的弧形下表面IlOb形狀相同，該弧形的下表面可以減少由于氣體流出出氣通道出口時在表面產(chǎn)生的沉積反應(yīng)，進而避免對反應(yīng)工藝造成的顆粒污染。在某些實施例中，為了不同的需求，也可以將不同第一氣體出氣通道出口和第二氣體出氣通道出口之間的弧形下表面I1b形狀設(shè)置為不相同，通過設(shè)置該下表面的不同形狀達到調(diào)節(jié)反應(yīng)氣體出氣速率不同或氣體分布不同的目的。由圖4可知，縱長形的氣體導(dǎo)流條兩側(cè)分別為第一氣體出氣通道1111和第二氣體出氣通道1112，第一氣體出氣通道1111和第二氣體出氣通道1112平行交替設(shè)置，分別提供第一氣體和第二氣體至反應(yīng)區(qū)域。
[0052]作為一種優(yōu)選實施例，圖示中的第一氣體出氣通道1111為寬度小于第一氣體擴散槽111的槽寬度的縫隙形通道，第二氣體出氣通道1121為寬度小于第二氣體擴散槽112槽寬度的縫隙形通道，在另外的實施例中，兩個氣體出氣通道還可以為別的結(jié)構(gòu)，具體將在后面的實施例中介紹。
[0053]隔離板120上設(shè)置若干小孔125以允許第一氣體輸送管121通過,第一氣體輸送管121穿過隔離板120將第一氣體輸送到第一氣體擴散槽111內(nèi)，每個第一氣體擴散槽111至少對應(yīng)一個第一氣體輸送管121，為了使得氣體擴散通道111內(nèi)的第一氣體擴散快速均勻，可以在每一條第一氣體擴散槽111上均勻設(shè)置若干個第一氣體輸送管121。由于第一氣體和第二氣體在進入處理區(qū)域內(nèi)時需要保證相互隔離，因此第一氣體輸送管121將第一氣體輸送到第一氣體擴散槽111內(nèi)的過程中要保證不與第二氣體混合，為此，在氣體輸送板110表面固定連接一層密封板113，密封板113上對應(yīng)第二氣體擴散槽112的位置挖空，使第二氣體擴散槽112與第二氣體擴散區(qū)域118相連通，密封板113僅將第一氣體擴散槽111完全覆蓋。優(yōu)選地，為了保證覆蓋的密封性，密封板113與第一氣體擴散槽111兩側(cè)的上表面IlOa設(shè)置密封墊1135。密封板113對應(yīng)第一氣體輸送管121的位置設(shè)置允許第一氣體注入的輸送管插接口 115，在本實施例中該輸送管插接口 115可以允許第一氣體輸送管121穿過，在另外的實施例中，氣體輸送管121不穿過輸送管插接口 115，其末端抵靠在密封板113上表面，僅將第一氣體注入第一氣體擴散槽內(nèi)，上述兩種實施例均通過將第一氣體輸送管121與密封板113的輸送管插接口 115的接觸面進行密封實現(xiàn)第一氣體與第二氣體的隔離，如果第一氣體輸送管121和密封板113均為金屬材質(zhì)，可以通過焊接的方式進行密封；如果是非金屬材質(zhì)也可以采用密封圈的方式進行密封。如果每個第一氣體擴散槽111對應(yīng)若干第一氣體輸送管121，密封板113上需要設(shè)置對應(yīng)個數(shù)的輸送管插接口 115，每個第一氣體輸送管121與輸送管插接口 115的接觸面都需要進行密封處理。
[0054]將本實施例的反應(yīng)氣體輸送裝置100置于圖1所示的反應(yīng)器內(nèi)，作為不同種實施方式，可以直接采用反應(yīng)腔頂壁12作為頂板與隔離板120形成第一氣體擴散區(qū)域，也可以將圖2