-4所示實(shí)施例描述的反應(yīng)氣體輸送裝置整體放置在頂壁12下方，第一氣體源101中的第一氣體注入第一氣體擴(kuò)散區(qū)域128內(nèi)，第二氣體源102中的第二氣體注入第二氣體擴(kuò)散區(qū)域118內(nèi)，第一氣體通過(guò)第一氣體輸送管121進(jìn)入第一氣體擴(kuò)散槽111再經(jīng)第一氣體出氣通道1111進(jìn)入基片承載架15上方的處理區(qū)域，第二氣體通過(guò)第二氣體擴(kuò)散槽112經(jīng)第二氣體出氣通道1121進(jìn)入基片承載架15上方的處理區(qū)域。兩種氣體在處理區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)基片承載架15上方的基片進(jìn)行工藝處理。
[0055]前述實(shí)施方式中，通過(guò)設(shè)置密封板113實(shí)現(xiàn)第一氣體與第二氣體的隔離。應(yīng)當(dāng)理解，其不限于此種設(shè)計(jì)。例如，在反應(yīng)氣體輸送裝置的上表面上開(kāi)設(shè)第一氣體擴(kuò)散槽111時(shí)，直接從上表面的下方一距離開(kāi)鑿出第一氣體擴(kuò)散槽111，這樣使第一氣體擴(kuò)散槽111的上方不露空，而是設(shè)置于上表面的下方，該設(shè)計(jì)不再需要額外設(shè)置密封板113。
[0056]本發(fā)明所提供的反應(yīng)氣體輸送裝置，其制作方法簡(jiǎn)單，每個(gè)尺寸可精確控制，制作步驟是:
[0057]a)先提供一具有一定厚度的一體成形之板材110，用以制作氣體輸送板，該板材具有相對(duì)平行的上表面IlOa和下表面IlOb ;作為一種TK例,板材制作成大體呈圓柱形。
[0058]b)在所述板材的上表面沿某一水平方向(如X軸的正負(fù)方向)交替平行開(kāi)鑿?fù)诔鼍哂幸欢ㄉ疃鹊目v長(zhǎng)形的第一氣體擴(kuò)散槽111和縱長(zhǎng)形的第二氣體擴(kuò)散槽112，在第一氣體擴(kuò)散槽111的槽底開(kāi)設(shè)寬度小于第一氣體擴(kuò)散槽槽寬度的縱長(zhǎng)形的縫隙通道或直徑小于第一氣體擴(kuò)散槽槽寬度的若干孔通道，縫隙通道或孔通道構(gòu)成第一氣體出氣通道1111，在第二氣體擴(kuò)散槽112的槽底開(kāi)設(shè)寬度小于第二氣體擴(kuò)散槽槽寬度的縱長(zhǎng)形的縫隙通道或直徑小于第二氣體擴(kuò)散槽槽寬度的若干孔通道，縫隙通道或通道構(gòu)成第二氣體出氣通道1121 ;每一第一出氣通道和每一第二氣體出氣通道之間的板材成為縱長(zhǎng)形的氣體導(dǎo)流條50 ；
[0059]c)在每一氣體導(dǎo)流條50內(nèi)部開(kāi)鑿冷卻通道116 ;設(shè)置氣體導(dǎo)流條的下表面為具有一定弧度的下表面或尖錐形下表面；
[0060]d)在制作完成的氣體輸送板上表面緊密固定一密封板113，將密封板上對(duì)應(yīng)第二氣體擴(kuò)散槽112的區(qū)域挖空設(shè)置，在密封板上對(duì)應(yīng)每一第一氣體擴(kuò)散槽的位置設(shè)置至少一輸送管插接口 115 ；
[0061]e)在氣體輸送板110上方一定距離設(shè)置一隔離板120,隔離板120和氣體輸送板110之間形成第二氣體擴(kuò)散區(qū)域118，在所述隔離板上對(duì)應(yīng)每一輸送管插接口 115的位置設(shè)置一小孔125，每個(gè)小孔125和其對(duì)應(yīng)的輸送管插接口 115處設(shè)置一第一氣體輸送管121，第一氣體輸送管121與小孔125和輸送管插接口 115連接處密封設(shè)置；
[0062]f)在所述隔離板上方一定距離設(shè)置一頂板130，頂板130與隔離板120之間形成第一氣體擴(kuò)散區(qū)域128。
[0063]本發(fā)明所提供的反應(yīng)氣體輸送裝置，其加工制作簡(jiǎn)單，在機(jī)械加工時(shí)，每一個(gè)槽和通道的大小可以精確控制，從而保證加工后的每一個(gè)反應(yīng)氣體輸送裝置的形狀、大小、尺寸同一，保證了加工制作的良率；相同的反應(yīng)氣體輸送裝置置于不同的反應(yīng)器內(nèi)可實(shí)現(xiàn)與不同反應(yīng)器的匹配一致，在多個(gè)反應(yīng)器加工一批基片時(shí)能保證反應(yīng)腔與反應(yīng)腔之間的加工工藝的均一性，提高反應(yīng)器的產(chǎn)品合格率。同時(shí)，由于氣體擴(kuò)散槽、氣體出氣通道、氣體導(dǎo)流塊、冷卻管道均設(shè)置在一塊板材上，大大地減少了漏氣、漏水的可能，保證了反應(yīng)氣體輸送裝置的使用可靠性。
[0064]本申請(qǐng)的反應(yīng)氣體輸送裝置盡量少的采用管道設(shè)計(jì)，減少了管道與密封板及隔離板處的密封數(shù)量，提高了兩種氣體進(jìn)入處理區(qū)域前的相互隔離效果，通過(guò)采用一定厚度的氣體輸送板110并在氣體輸送板上制作上表面開(kāi)口的氣體擴(kuò)散槽，降低了制作難度，提高了氣體輸送的效率，由于第一氣體輸送管的數(shù)量有限，對(duì)第二氣體擴(kuò)散區(qū)域的氣體流動(dòng)阻力幾乎可忽略不計(jì)，第二氣體可以迅速在第二氣體擴(kuò)散區(qū)域擴(kuò)散均勻，并通過(guò)第二氣體擴(kuò)散槽和第二氣體出氣通道進(jìn)入處理區(qū)域。通過(guò)設(shè)置氣體輸送板的下表面IlOb為弧形，同時(shí)設(shè)置冷卻通道116靠近下表面110b，減少了兩種反應(yīng)氣體剛出氣體出氣通道就進(jìn)行反應(yīng)并將反應(yīng)物沉積在下表面上帶來(lái)的污染問(wèn)題。
[0065]圖5示出另一種實(shí)施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖。本實(shí)施例的反應(yīng)氣體輸送裝置與上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)大致相同，故相同的部件采用了相同的標(biāo)號(hào)，區(qū)別在于，本實(shí)施例中第一氣體出氣通道1112為直徑小于第一氣體擴(kuò)散槽槽寬度的若干孔通道，形成一條縱長(zhǎng)形的孔通道；第二氣體出氣通道1122為直徑小于第二氣體擴(kuò)散槽槽寬度的若干孔通道，形成一條縱長(zhǎng)形的孔通道。該種設(shè)計(jì)可以有效的實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體出氣速率進(jìn)行控制，同時(shí)，孔通道的出氣口出產(chǎn)生渦流的現(xiàn)象較弱，因此反應(yīng)氣體不會(huì)在氣體輸送板的下表面進(jìn)行沉積。
[0066]圖6和圖7示出本申請(qǐng)的另一種實(shí)施例結(jié)構(gòu)，其中圖6為本實(shí)施例反應(yīng)氣體輸送裝置的前視橫截面示意圖，圖7為本實(shí)施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖，本實(shí)施例的反應(yīng)氣體輸送裝置與上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)大致相同，故相同的部件采用了相同的標(biāo)號(hào)，其區(qū)別在于:每一縱長(zhǎng)形的氣體導(dǎo)流條50兩側(cè)分別連接一縱長(zhǎng)形的子氣體導(dǎo)流條，氣體導(dǎo)流條50與子氣體導(dǎo)流條相互平行并相互間隔一距離設(shè)置，二者之間形成一子氣體通道，具體的，第一氣體擴(kuò)散槽兩側(cè)的氣體導(dǎo)流條50連接的縱長(zhǎng)形的子氣體導(dǎo)流條分別為51a和51b,子氣體導(dǎo)流條51a與氣體導(dǎo)流條50之間形成子氣體通道1113a,子氣體導(dǎo)流條51b與氣體導(dǎo)流條50之間形成子氣體通道1113b，第二氣體擴(kuò)散槽112兩側(cè)的氣體導(dǎo)流條50連接的縱長(zhǎng)形的子氣體導(dǎo)流條分別為52a和52b，子氣體導(dǎo)流條52a與氣體導(dǎo)流條50之間形成子氣體通道1123a，子氣體導(dǎo)流條52b與氣體導(dǎo)流條50之間形成子氣體通道1123b。子氣體通道1113a和1113b與所述第一氣體出氣通道在豎直的截面方向上呈一銳角，子氣體通道1123a和1123b與所述第二氣體出氣通道在豎直的截面方向上呈一銳角?？梢栽O(shè)置子氣體導(dǎo)流條和氣體導(dǎo)流條之間有連接處，以保證氣體輸送板的整體設(shè)計(jì)。在氣體導(dǎo)流條50兩側(cè)設(shè)置子氣體導(dǎo)流條，可以增加氣體擴(kuò)散的出口，提高氣體自氣體擴(kuò)散槽向處理區(qū)域擴(kuò)散速率，在需要同樣氣體流出速率的時(shí)候可以降低氣體輸送板110上表面的氣體擴(kuò)散槽的密度，降低制作成本。第一氣體和第二氣體經(jīng)子氣體通道1113b和子氣體通道1123a流出后互相對(duì)沖，兩種氣體快速到達(dá)基片表面進(jìn)行反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)基片的加工處理。
[0067]圖8和圖9示出本申請(qǐng)的另一種實(shí)施例結(jié)構(gòu)，其中圖8為本實(shí)施例反應(yīng)氣體輸送裝置的前視橫截面示意圖，圖9為本實(shí)施例的反應(yīng)氣體輸送裝置后方抬起一定角度的前視橫截面示意圖，本實(shí)施例的反應(yīng)氣體輸送裝置與上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)大致相同，故相同的部件采用了相同的標(biāo)號(hào)，其區(qū)別在于:本實(shí)施例中第一氣體出氣通道1111和第二氣體出氣通道1121之間的氣體輸送板下表面110b’為向處理區(qū)域方向凹陷的弧形面，該種設(shè)計(jì)使得氣體輸送板的下表面110b’與冷卻通道116之間的距離更為接近，同時(shí)，凹陷的弧形表面距離兩種反應(yīng)氣體的接觸區(qū)域較遠(yuǎn)，可以減少兩種氣體在下表面110b’處的沉積物，降低對(duì)反應(yīng)腔的污染概率。
[0068]圖10示出圖9所述實(shí)施例的變形實(shí)施例，其中，第一氣體出氣通道1111和第二氣體出氣通道1121靠近反應(yīng)區(qū)域的一端兩側(cè)與下表面110b’連接處為一弧形表面55。該實(shí)施例中反應(yīng)氣體自第一氣體出氣通道1111和第二氣體出氣通道1121流出后在凹陷的弧形下表面110b’下方區(qū)域30進(jìn)行預(yù)反應(yīng)，再沉積在基片表面，提高反應(yīng)速率。
[0069]圖11示出本申請(qǐng)的另一種實(shí)施例結(jié)構(gòu)，在本實(shí)施例中，反應(yīng)氣體輸送裝置與上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)大致相同，故相同的部件采用了相同的標(biāo)號(hào)，其區(qū)別在于:本實(shí)施例中氣體導(dǎo)流條的下表面110b”為向處理區(qū)域方向凸起的尖錐形，采用該種設(shè)計(jì)使得第一氣體出氣通道和第二氣體出氣通道在靠近處理區(qū)域處開(kāi)口逐漸變大，可有效減少反應(yīng)氣體在兩氣體出氣通道出口處發(fā)生的渦流效應(yīng)，降低兩種反應(yīng)氣體在氣體導(dǎo)流條下表面110b”處發(fā)生沉積反應(yīng)的概率，避免反應(yīng)腔內(nèi)反生沉積顆粒污染。
[0070]圖12和圖13示出本申請(qǐng)的另一種實(shí)施例結(jié)構(gòu)，在本實(shí)施例中，反應(yīng)氣體輸送裝置至少包括中心區(qū)域和邊緣區(qū)