1.一種等離子體刻蝕爐，其特征在于，包括圓柱狀的爐體(1)；所述爐體(1)的一端的上側(cè)開放有氣體進(jìn)入通道(3)；所述爐體(1)下側(cè)開放有真空排氣通道(2)；所述爐體(1)中固定有晶圓放置臺(tái)(4)；所述晶圓放置臺(tái)(4)為傾斜狀，由爐體(1)的氣體進(jìn)入通道(3)一端到爐體(1)的另一端，晶圓放置臺(tái)(4)的位置越來(lái)越高；晶圓(5)放置于晶圓放置臺(tái)(4)之上；晶圓(5)垂直于晶圓放置臺(tái)(4)的上表面，且面向圓柱狀爐體(1)的地面；爐體(1)周圍包圍有兩個(gè)相對(duì)的弧狀射頻電極(6)；射頻發(fā)生器(7)連接于其中一個(gè)射頻電極(6)之上。