1.一種透明導(dǎo)電膜制造方法，其特征在于，其包括有下列步驟：
提供一基板、一導(dǎo)電膜材料、一網(wǎng)印膜板以及一金屬導(dǎo)電漿料，該網(wǎng)印膜板具有預(yù)定形狀之一開口；
將該導(dǎo)電膜材料位于該基板上；
將該網(wǎng)印膜板位于該導(dǎo)電膜材料上；
液化該金屬導(dǎo)電漿料，且將液化的該金屬導(dǎo)電漿料置入該開口；
移除該網(wǎng)印膜板；
烘烤該導(dǎo)電膜材料以及該金屬導(dǎo)電漿料以形成一導(dǎo)電膜層以及一金屬導(dǎo)電層；
將未位于該金屬導(dǎo)電層的該導(dǎo)電膜層圖案化。
2.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜制造方法，其特征在于，該金屬導(dǎo)電漿料藉由形成該氧化銦錫層的退火溫度加以固化形成該金屬導(dǎo)電層。
3.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜制造方法，其特征在于，藉由黃光制程將未位于該金屬導(dǎo)電層中的該導(dǎo)電膜層圖案化。
4.一種透明導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，其包括有：
一基板，其為樹脂聚合物材料所制成；
一導(dǎo)電膜層，其位于該基板之一側(cè)面上，該氧化銦錫層包括有一圖案區(qū)域以及一承載區(qū)域；以及
一金屬導(dǎo)電層，其位于該承載區(qū)域上，該金屬導(dǎo)電層與該導(dǎo)電膜層交界處外緣具有一蝕刻口。
5.如權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該蝕刻口與該金屬導(dǎo)電層具有一夾角，該夾角為0度至45度之間。
6.如權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該蝕刻口位于該金屬導(dǎo)電層的尺寸為0至15奈米之間。
7.如權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該金屬導(dǎo)電層位于該承載區(qū)域上的厚度尺寸為1至5微米之間。
8.如權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電膜層為氧化銦錫、奈米銀線、聚乙烯二氧噻吩或奈米碳管所制成。
9.如權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該金屬導(dǎo)電層為印刷銀漿、雷射銀漿、感光型銀漿或銅漿所制成。