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      一種電阻和電容串連的組件的制作方法

      文檔序號:10081556閱讀:418來源:國知局
      一種電阻和電容串連的組件的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本申請涉及電子元件技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種電阻電容串連的組件。
      【背景技術(shù)】
      [0002]目前,在保護(hù)電路的實(shí)現(xiàn)過程中,普遍需要用到具有串連關(guān)系的電阻電容元件,將分立電阻、電容串聯(lián)使用,例如像RJ45防護(hù)中實(shí)現(xiàn)匹配阻抗的Bobsmith電路結(jié)構(gòu)就需要具有串聯(lián)結(jié)構(gòu)關(guān)系的電阻和電容;這種電路結(jié)構(gòu)還包括分別和電阻、電容串連組成閉合回路的一個(gè)防護(hù)元件,該電路傳統(tǒng)的實(shí)現(xiàn)方式是將分立的電阻、電容和防護(hù)器件分次貼合在印刷線路板上,工藝實(shí)現(xiàn)時(shí)間長,,占用PCB面積較多,不易實(shí)現(xiàn)小型化。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]本申請實(shí)施例提供了一種電阻和電容串連的組件,解決了現(xiàn)有的電阻電容串連的應(yīng)用電路進(jìn)行貼片生產(chǎn)時(shí)的效率低,由于結(jié)構(gòu)松散、布板面積大,不利于產(chǎn)品小型化趨勢發(fā)展的問題。
      [0004]第一方面,本申請實(shí)施例提供一種電阻和電容串連的組件,包括:
      [0005]依次疊層的第一電容電極層、第一電介質(zhì)層和電阻層。
      [0006]結(jié)合第一方面,在第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一電介質(zhì)層包括對位疊層、壓合的N個(gè)電介質(zhì)分層,所述N為大于0的整數(shù)。
      [0007]結(jié)合第一方面和基于第一方面的第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,該組件還包括:
      [0008]疊層于所述第一電介質(zhì)層和所述電阻層之間的第二電容電極層。
      [0009]基于第一方面的第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述電阻層包括:
      [0010]由下至上疊層的第一電阻漿料印刷層和電阻電極層。
      [0011]基于第一方面的第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第四種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,該組件還包括:
      [0012]疊層于所述第二電容電極層表面的第二電介質(zhì)層;
      [0013]所述第二電介質(zhì)層開設(shè)有通孔;
      [0014]所述電阻層包括:
      [0015]用于填充所述通孔,且印刷于所述通孔內(nèi)的所述第二電容電極層表面的所述第一電阻漿料印刷層;
      [0016]疊層于所述第一電阻漿料印刷層表面的所述電阻電極層。
      [0017]基于第一方面的第四種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在五種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通孔為多邊形或者圓形通孔或者扇形通孔或者橢圓形通孔。
      [0018]基于第一方面的第五種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第六種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通孔為對稱多邊形通孔。
      [0019]基于第一方面的第六種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第七種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述對稱多邊形通孔為正方形通孔,所述正方形通孔的邊長為0.5mm?2mm中的任一值。
      [0020]基于第一方面的第七種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第八種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述正方形通孔的深度為0.2?0.6mm中的任一值。
      [0021]基于第一方面的第五種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第九種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一電介質(zhì)層中的每一個(gè)電介質(zhì)分層為用于制作電容器的第一陶瓷電介質(zhì)基體,所述第二電介質(zhì)層為第二陶瓷電介質(zhì)基體。
      [0022]基于第一方面的第九種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第十種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一陶瓷電介質(zhì)基體為第二主族元素的氧化物或者鈦酸鹽,所述鈦酸鹽包括鈦酸鋇電介質(zhì)基體、鈦酸鈣電介質(zhì)基體或者鈦酸鎂電介質(zhì)基體,所述第二主族元素的氧化物包括三氧化二鋁電介質(zhì)基體。
      [0023]基于第一方面的第十種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第十一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一電容電極層、所述第二電容電極層、所述電阻電極層包含鈀、鉑、金、銀、銅或鎳或上述至少兩種金屬所成的合金。
      [0024]基于第一方面的第十一種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第十二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一電阻漿料印刷層為釕系電阻漿料。
      [0025]基于第一方面的第十二種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第十三種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一電阻漿料印刷層的阻漿電阻率為700?1400 Ω.cm。
      [0026]基于第一方面的第十三種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第十四種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述組件的厚度在之間,所述組件的長度不大于2.5mm,不小于1_ ;所述組件的寬度不大于2.5mm,不小于lmm0
      [0027]第二方面,本申請實(shí)施例提供一種制作電阻和電容串連的組件的方法,包括:
      [0028]通過楽料流延工藝制作第一電介質(zhì)層;
      [0029]通過燒結(jié)固化工藝固化所述第一電介質(zhì)層;
      [0030]印刷電阻漿料于所述第一電介質(zhì)層的上表面;
      [0031]通過燒結(jié)固化工藝共燒所述第一電介質(zhì)層和所述電阻漿料以固化所述電阻漿料形成電阻層,使所述電阻層固化連接至所述第一電介質(zhì)層;
      [0032]于所述第一電介質(zhì)層的下表面和所述電阻層的上表面分別印刷一電極層;
      [0033]通過燒結(jié)固化工藝固化連接一所述電極層與所述電阻層,以及固化連接另一所述電極層與所述第一電介質(zhì)層。
      [0034]結(jié)合第二方面,在第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通過漿料流延工藝制作第一電介質(zhì)層,包括:
      [0035]通過研磨工藝配制用于制作第一電介質(zhì)層的粉料;
      [0036]將所述粉料制成漿料;
      [0037]通過楽料流延工藝將所述楽料制成薄片;
      [0038]將所述薄片進(jìn)行切片形成N個(gè)電介質(zhì)分層;所述N為大于0的整數(shù);
      [0039]通過疊層工藝將所述N個(gè)電介質(zhì)分層進(jìn)行疊層,形成預(yù)定厚度的所述第一電介質(zhì)層。
      [0040]結(jié)合第二方面的第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通過研磨工藝配制用于制作第一電介質(zhì)層的粉料,包括:
      [0041]通過研磨工藝配制用于制作第一電介質(zhì)層的第二主族元素的氧化物或者鈦酸鹽,所述鈦酸鹽包括鈦酸鋇電介質(zhì)基體、鈦酸鈣電介質(zhì)基體或者鈦酸鎂電介質(zhì)基體,所述第二主族元素的氧化物包括三氧化二鋁電介質(zhì)基體。
      [0042]結(jié)合第二方面或者第二方面的第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式或者第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通過燒結(jié)固化工藝共燒所述第一電介質(zhì)層和所述電阻漿料以固化所述電阻漿料形成電阻層,使所述電阻層固化連接至所述第一電介質(zhì)層,包括:
      [0043]在900°C?1300°C范圍中的任一共燒溫度條件下,通過燒結(jié)固化工藝共燒所述第一電介質(zhì)層和所述電阻漿料以固化所述電阻漿料形成電阻層,使所述電阻層固化連接至所述第一電介質(zhì)層。
      [0044]結(jié)合第二方面的第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第四種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述在900°C?1300°C范圍中的任一共燒溫度條件下,通過燒結(jié)固化工藝共燒所述第一電介質(zhì)層和所述電阻漿料以固化所述電阻漿料形成電阻層,使所述電阻層固化連接至所述第一電介質(zhì)層,包括:
      [0045]在950°C?1100°C中的任一共燒溫度條件下,通過燒結(jié)固化工藝共燒所述第一電介質(zhì)層和所述電阻漿料以固化所述電阻漿料形成電阻層,使所述電阻層固化連接至所述第一電介質(zhì)層。
      [0046]結(jié)合第二方面的第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第五種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述印刷電阻漿料于所述第一電極層的上表面,包括:
      [0047]制作阻漿電阻率為700?1400 Ω.cm的電阻漿料;
      [0048]印刷所述電阻漿料于所述第一電極層的上表面。
      [0049]結(jié)合第二方面的第五種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第六種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述方法還包括:
      [0050]切割形成預(yù)定尺寸的Μ個(gè)所述組件,所述Μ為大于零的整數(shù);
      [0051]對所述組件進(jìn)行測試和包裝。
      [0052]第三方面,本申請實(shí)施例提供一種制作電阻和電容串連的組件的方法,包括:
      [0053]通過楽料流延工藝制作第一電介質(zhì)層;
      [0054]通過燒結(jié)固化工藝固化所述第一電介質(zhì)層;
      [0055]在所述第一電介質(zhì)層的上、下兩面分別印刷一第一電介質(zhì)層電極;
      [0056]通過燒結(jié)固化工藝固化連接所述第一電介質(zhì)層和所述第一電介質(zhì)層電極;
      [0057]印刷電阻漿料于任一所述第一電介質(zhì)層電極的表面;
      [0058]通過燒結(jié)固化工藝固化所述電阻漿料形成電阻層,以固化連接所述電阻層和所述第一電介質(zhì)層電極;
      [0059]印刷一電阻層電極于所述電阻層的表面;
      [0060]通過燒結(jié)固化工藝固化連接所述電阻層和所述電阻層電極。
      [0061]結(jié)合第三方面,在第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通過漿料流延工藝制作第一電介質(zhì)層,包括:
      [0062]通過研磨工藝配制用于制作第一電介質(zhì)層的粉料;
      [0063]將所述粉料制成漿料;
      [0064]通過楽料流延工藝將所述楽料制成薄片;
      [0065]將所述薄片進(jìn)行切片形成N個(gè)電介質(zhì)分層;所述N為大于0的整數(shù);
      [0066]通過疊層工藝將所述N個(gè)電介質(zhì)分層進(jìn)行疊層,形成預(yù)定厚度的所述第一電介質(zhì)層。
      [0067]結(jié)合第三方面的第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通過研磨工藝配制用于制作第一電介質(zhì)層的粉料,包括:
      [0068]通過研磨工藝配制用于制作第一電介質(zhì)層的第二主族元素的氧化物或者鈦酸鹽,所述鈦酸鹽包括鈦酸鋇電介質(zhì)基體、鈦酸鈣電介質(zhì)基體或者鈦酸鎂電介質(zhì)基體,所述第二主族元素的氧化物包括三氧化二鋁電介質(zhì)基體。
      [0069]結(jié)合第三方面的第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述印刷電阻漿料于任一所述第一電介質(zhì)層電極的表面,包括:
      [0070]制作阻漿電阻率為700?1400 Ω.cm的電阻漿料;
      [0071]印刷所述電阻漿料于任一所述第一電介質(zhì)層電極的表面。
      [0072]結(jié)合第三方面的第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式,在第四種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述通過燒結(jié)固化工藝固化連接所述第一電介質(zhì)層和所述第一電介質(zhì)層電極之后,以及,印刷電阻漿料于任一所述第一電介質(zhì)層電極的表面之前,所述方法還包括:
      [0073]通過疊層工藝疊層
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