形成有側(cè)壁半開(kāi)放的過(guò)孔，形成有過(guò)孔的襯底基板上形成有跳線膜層，采用跳線膜層連接同一層的導(dǎo)電圖形，相較于相關(guān)技術(shù)，可以保證跳線膜層完全連接，信號(hào)正常傳輸，因此，提高了陣列基板的顯示質(zhì)量。
[0213]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示面板，包括圖4-2、圖6-2或圖9所示的陣列基板。
[0214]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述顯示面板。該顯示裝置可以為液晶電視、手機(jī)、平板電腦、導(dǎo)航儀等。該顯示裝置包括的顯示面板，采用半開(kāi)放的過(guò)孔上的跳線膜層連接位于襯底基板上不同層或同一層的導(dǎo)電圖形，相較于相關(guān)技術(shù)，可以保證跳線膜層完全連接，信號(hào)正常傳輸，因此，提高了顯示裝置的顯示質(zhì)量。
[0215]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 在襯底基板上形成第一導(dǎo)電圖形和第二導(dǎo)電圖形； 在形成有所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成過(guò)孔，所述過(guò)孔的側(cè)壁半開(kāi)放； 在形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成跳線膜層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述過(guò)孔為條狀孔，所述條狀孔的長(zhǎng)度方向或?qū)挾确较虻膫?cè)壁開(kāi)放。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述條狀孔的側(cè)壁開(kāi)放的方向上尺寸大于或等于15微米，且小于或等于20微米。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，具體包括: 在所述襯底基板上形成所述第一導(dǎo)電圖形； 在形成有所述第一導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成第一絕緣層圖形； 在形成有所述第一絕緣層圖形的襯底基板上形成所述第二導(dǎo)電圖形，所述第二導(dǎo)電圖形與所述第一導(dǎo)電圖形位于所述襯底基板上的不同層； 在形成有所述第二導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成第二絕緣層圖形； 所述第一導(dǎo)電圖形、所述第二導(dǎo)電圖形、所述第一絕緣層圖形和所述第二絕緣層圖形圍成所述過(guò)孔； 在形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成所述跳線膜層，使得所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形電連接。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一導(dǎo)電圖形為柵極金屬圖形，所述第二導(dǎo)電圖形為源漏極金屬圖形，所述在形成有所述第一導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成第一絕緣層圖形，包括: 在形成有所述柵極金屬圖形的襯底基板上形成柵極絕緣層； 對(duì)所述柵極絕緣層進(jìn)行構(gòu)圖，形成柵極絕緣圖形； 所述在形成有所述第一絕緣層圖形的襯底基板上形成所述第二導(dǎo)電圖形，包括: 在形成有所述柵極絕緣圖形的襯底基板上形成所述源漏極金屬圖形； 所述在形成有所述第二導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成第二絕緣層圖形，包括: 在形成有所述源漏極金屬圖形的襯底基板上形成鈍化層； 對(duì)所述鈍化層進(jìn)行構(gòu)圖，形成鈍化層圖形。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于， 所述柵極絕緣圖形包括位于所述柵極金屬圖形上的第一子圖形和與所述柵極金屬圖形同層的第二子圖形，所述柵極金屬圖形與所述第二子圖形存在間隙，所述第一子圖形覆蓋所述柵極金屬圖形遠(yuǎn)離所述第二子圖形的部分。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于， 所述源漏極金屬圖形與所述第一子圖形位于同一層，且所述源漏極金屬圖形與所述第一子圖形存在間隙。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于， 所述鈍化層圖形包括位于所述第一子圖形上的第三子圖形和位于所述源漏極金屬圖形上的第四子圖形，所述第四子圖形覆蓋所述源漏極金屬圖形遠(yuǎn)離所述第一子圖形的部分，未被所述柵極絕緣層的第一子圖形覆蓋的所述柵極金屬圖形的部分、未被所述鈍化層的第四子圖形覆蓋的所述源漏極金屬圖形的部分、所述柵極絕緣圖形和所述鈍化層圖形共同圍成所述過(guò)孔。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，具體包括: 在所述襯底基板上形成所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形，所述第二導(dǎo)電圖形與所述第一導(dǎo)電圖形位于所述襯底基板上的同一層； 在形成有所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電層圖形的襯底基板上形成第一絕緣層圖形； 所述第一導(dǎo)電圖形、所述第二導(dǎo)電圖形和所述第一絕緣層圖形圍成所述過(guò)孔； 在形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成所述跳線膜層，使得所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形電連接。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述第一導(dǎo)電圖形為第一柵極金屬圖形，所述第二導(dǎo)電圖形為第二柵極金屬圖形，所述方法具體包括: 在所述襯底基板上形成柵極金屬薄膜，通過(guò)構(gòu)圖工藝同層形成所述第一柵極金屬圖形和所述第二柵極金屬圖形； 在形成有所述第一柵極金屬圖形和所述第二柵極金屬圖形的襯底基板上形成柵極絕緣層； 對(duì)所述柵極絕緣層進(jìn)行構(gòu)圖形成柵極絕緣圖形，所述柵極絕緣圖形覆蓋所述第一柵極金屬圖形遠(yuǎn)離所述第二柵極金屬圖形的部分以及覆蓋所述第二柵極圖形遠(yuǎn)離所述第一柵極金屬圖形的部分； 所述第一柵極金屬圖形未被所述柵極絕緣圖形覆蓋的部分、所述第二柵極金屬圖形未被所述柵極絕緣圖形覆蓋的部分以及所述柵極絕緣圖形共同圍成所述過(guò)孔； 在形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成所述跳線膜層，使得所述第一柵極金屬圖形和所述第二柵極金屬圖形電連接。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述第一導(dǎo)電圖形為第一源漏金屬圖形，所述第二導(dǎo)電圖形為第二源漏金屬圖形，所述方法具體包括: 在所述襯底基板上形成源漏金屬薄膜，通過(guò)構(gòu)圖工藝同層形成所述第一源漏金屬圖形和所述第二源漏金屬圖形； 在形成有所述第一源漏金屬圖形和所述第二源漏金屬圖形的襯底基板上形成鈍化層； 對(duì)所述鈍化層進(jìn)行構(gòu)圖形成鈍化層圖形，所述鈍化層圖形覆蓋所述第一源漏金屬圖形遠(yuǎn)離所述第二源漏金屬圖形的部分以及覆蓋所述第二源漏金屬圖形遠(yuǎn)離所述第一源漏金屬圖形的部分； 所述第一源漏金屬圖形未被所述鈍化層圖形覆蓋的部分、所述第二源漏金屬圖形未被所述鈍化層圖形覆蓋的部分以及所述鈍化層圖形共同圍成所述過(guò)孔； 在形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成所述跳線膜層，使得所述第一源漏金屬圖形和所述第二源漏金屬圖形電連接。12.—種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括: 襯底基板； 所述襯底基板上形成有第一導(dǎo)電圖形和第二導(dǎo)電圖形； 形成有所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成有過(guò)孔，所述過(guò)孔的側(cè)壁半開(kāi)放； 形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成有跳線膜層。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的陣列基板，其特征在于，所述過(guò)孔為條狀孔，所述條狀孔的長(zhǎng)度方向或?qū)挾确较虻膫?cè)壁開(kāi)放。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的陣列基板，其特征在于，所述條狀孔的側(cè)壁開(kāi)放的方向上尺寸大于或等于15微米，且小于或等于20微米。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的陣列基板，其特征在于， 所述襯底基板上形成有所述第一導(dǎo)電圖形； 形成有所述第一導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成有第一絕緣層圖形； 形成有所述第一絕緣層圖形的襯底基板上形成有所述第二導(dǎo)電圖形，所述第二導(dǎo)電圖形與所述第一導(dǎo)電圖形位于所述襯底基板上的不同層； 形成有所述第二導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成有第二絕緣層圖形； 所述第一導(dǎo)電圖形、所述第二導(dǎo)電圖形、所述第一絕緣層圖形和所述第二絕緣層圖形圍成所述過(guò)孔； 形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成有所述跳線膜層，所述跳線膜層使所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形電連接。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的陣列基板，其特征在于，所述第一導(dǎo)電圖形為柵極金屬圖形，所述第二導(dǎo)電圖形為源漏極金屬圖形， 形成有所述柵極金屬圖形的襯底基板上形成有柵極絕緣圖形； 形成有所述柵極絕緣圖形的襯底基板上形成有所述源漏極金屬圖形； 形成有所述源漏極金屬圖形的襯底基板上形成有鈍化層圖形。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的陣列基板，其特征在于， 所述柵極絕緣圖形包括位于所述柵極金屬圖形上的第一子圖形和與所述柵極金屬圖形同層的第二子圖形，所述柵極金屬圖形與所述第二子圖形存在間隙，所述第一子圖形覆蓋所述柵極金屬圖形遠(yuǎn)離所述第二子圖形的部分。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的陣列基板，其特征在于， 所述源漏極金屬圖形與所述第一子圖形位于同一層，且所述源漏極金屬圖形與所述第一子圖形存在間隙。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的陣列基板，其特征在于， 所述鈍化層圖形包括位于所述第一子圖形上的第三子圖形和位于所述源漏極金屬圖形上的第四子圖形，所述第四子圖形覆蓋所述源漏極金屬圖形遠(yuǎn)離所述第一子圖形的部分，未被所述柵極絕緣層的第一子圖形覆蓋的所述柵極金屬圖形的部分、未被所述鈍化層的第四子圖形覆蓋的所述源漏極金屬圖形的部分、所述柵極絕緣圖形和所述鈍化層圖形共同圍成所述過(guò)孔。20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的陣列基板，其特征在于， 所述襯底基板上形成有所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形，所述第二導(dǎo)電圖形與所述第一導(dǎo)電圖形位于所述襯底基板上的同一層； 形成有所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電層圖形的襯底基板上形成有第一絕緣層圖形； 所述第一導(dǎo)電圖形、所述第二導(dǎo)電圖形和所述第一絕緣層圖形圍成所述過(guò)孔； 形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成有所述跳線膜層，所述跳線膜層使所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形電連接。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的陣列基板，其特征在于，所述第一導(dǎo)電圖形為第一柵極金屬圖形，所述第二導(dǎo)電圖形為第二柵極金屬圖形， 所述襯底基板上形成有所述第一柵極金屬圖形和所述第二柵極金屬圖形； 形成有所述第一柵極金屬圖形和所述第二柵極金屬圖形的襯底基板上形成有柵極絕緣圖形，所述柵極絕緣圖形覆蓋所述第一柵極金屬圖形遠(yuǎn)離所述第二柵極金屬圖形的部分以及覆蓋所述第二柵極圖形遠(yuǎn)離所述第一柵極金屬圖形的部分； 所述第一柵極金屬圖形未被所述柵極絕緣圖形覆蓋的部分、所述第二柵極金屬圖形未被所述柵極絕緣圖形覆蓋的部分以及所述柵極絕緣圖形共同圍成所述過(guò)孔； 形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成有所述跳線膜層，所述跳線膜層使所述第一柵極金屬圖形和所述第二柵極金屬圖形電連接。22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的陣列基板，其特征在于，所述第一導(dǎo)電圖形為第一源漏金屬圖形，所述第二導(dǎo)電圖形為第二源漏金屬圖形， 所述襯底基板上形成有所述第一源漏金屬圖形和所述第二源漏金屬圖形； 形成有所述第一源漏金屬圖形和所述第二源漏金屬圖形的襯底基板上形成有鈍化層圖形，所述鈍化層圖形覆蓋所述第一源漏金屬圖形遠(yuǎn)離所述第二源漏金屬圖形的部分以及覆蓋所述第二源漏金屬圖形遠(yuǎn)離所述第一源漏金屬圖形的部分； 所述第一源漏金屬圖形未被所述鈍化層圖形覆蓋的部分、所述第二源漏金屬圖形未被所述鈍化層圖形覆蓋的部分以及所述鈍化層圖形共同圍成所述過(guò)孔； 形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成有所述跳線膜層，所述跳線膜層使所述第一源漏金屬圖形和所述第二源漏金屬圖形電連接。23.—種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求12至22任一所述的陣列基板。24.—種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求23所述的顯示面板。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種陣列基板及其制造方法、顯示面板和顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：在襯底基板上形成第一導(dǎo)電圖形和第二導(dǎo)電圖形；在形成有所述第一導(dǎo)電圖形和所述第二導(dǎo)電圖形的襯底基板上形成過(guò)孔，所述過(guò)孔的側(cè)壁半開(kāi)放；在形成有所述過(guò)孔的襯底基板上形成跳線膜層。本發(fā)明解決了陣列基板的顯示質(zhì)量較差的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)了提高陣列基板的顯示質(zhì)量的效果，用于顯示裝置。
【IPC分類(lèi)】H01L21/77, G02F1/1362, H01L21/768, H01L27/12
【公開(kāi)號(hào)】CN105140179
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510497522
【發(fā)明人】李震芳, 楊瀟宇, 權(quán)基瑛, 羅強(qiáng)強(qiáng)
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年12月9日
【申請(qǐng)日】2015年8月13日