分的混合部52內(nèi)流通的 氫溶解處理液中注入化學(xué)溶液，使化學(xué)溶液和氫溶解處理液混合，但本發(fā)明也能夠采用圖6 的形態(tài)。即，是這樣的形態(tài):將在處理液供給管27中流通的氫溶解處理液和化學(xué)溶液導(dǎo)入到 罐內(nèi)，利用氫溶解處理液稀釋該化學(xué)溶液并向處理液噴嘴4供給。這種形態(tài)對(duì)于使用無(wú)法通 過(guò)催化劑單元21的化學(xué)溶液的情況、且是在圖5的形態(tài)(配管內(nèi)的混合部52)中難以實(shí)現(xiàn)目 標(biāo)的稀釋倍率的情況是有效的。
[0104] 參照?qǐng)D6,對(duì)圖2所示的形態(tài)的處理液供給配管27追加了化學(xué)溶液調(diào)制單元81。 [0105]化學(xué)溶液調(diào)制單元81具備化學(xué)溶液稀釋罐82,該化學(xué)溶液稀釋罐82用于接收氫溶 解處理液和化學(xué)溶液而調(diào)制稀釋化學(xué)溶液，該氫溶解處理液使用包含催化劑單元21和膜分 離單元22的部件而去除了溶解氧和過(guò)氧化氫。化學(xué)溶液稀釋罐82由密閉容器形成，化學(xué)溶 液稀釋罐82的內(nèi)部空間相對(duì)于其外部空間被隔斷。
[0106]在化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)插入有用于供給稀釋化學(xué)溶液的稀釋化學(xué)溶液供給管83 的一端。稀釋化學(xué)溶液供給管83的另一端與處理液供給管27的處于處理液閥28的下游側(cè)的 部分相連接。在稀釋化學(xué)溶液供給管83安裝有用于切換向處理液供給管27供給稀釋化學(xué)溶 液和停止向處理液供給管27供給稀釋化學(xué)溶液的稀釋化學(xué)溶液閥84。
[0107] 并且，在稀釋化學(xué)溶液供給管83的位于稀釋化學(xué)溶液閥84和化學(xué)溶液稀釋罐82之 間的部分安裝有栗57。優(yōu)選的是，在稀釋化學(xué)溶液供給管83的處于栗57的下游側(cè)的部分安 裝有未圖示的過(guò)濾器和脫氣單元。另外，稀釋化學(xué)溶液供給管83在栗57的下游分支為朝向 稀釋化學(xué)溶液閥84的路徑和朝向其他的處理室的路徑這兩者。
[0108] 此外，在化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)插入有用于供給氫溶解處理液的第二處理液供給管 85的一端。第二處理液供給管85的另一端與處理液供給管27的處于處理液閥28的上游側(cè)的 部分相連接。在第二處理液供給管85安裝有:處理液閥86,其用于切換向化學(xué)溶液稀釋罐82 供給氫溶解處理液和停止向化學(xué)溶液稀釋罐82供給氫溶解處理液；以及處理液流量調(diào)整閥 87,其用于將向化學(xué)溶液稀釋罐82供給的氫溶解處理液調(diào)整為預(yù)定的流量。
[0109] 在化學(xué)溶液稀釋罐82連接有化學(xué)溶液供給管75。能夠?qū)?lái)自未圖示的化學(xué)溶液供 給源的化學(xué)溶液經(jīng)由化學(xué)溶液供給管75向化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)供給。在化學(xué)溶液供給管75 安裝有:化學(xué)溶液閥76,其用于切換向化學(xué)溶液稀釋罐82供給化學(xué)溶液和停止向化學(xué)溶液 稀釋罐82供給化學(xué)溶液；以及化學(xué)溶液流量調(diào)整閥79,其用于將向化學(xué)溶液稀釋罐82供給 的化學(xué)溶液調(diào)整為預(yù)定的流量。
[0110]并且，在化學(xué)溶液稀釋罐82連接有非活性氣體供給管77。能夠?qū)?lái)自未圖示的非 活性氣體供給源的非活性氣體經(jīng)由非活性氣體供給管77向化學(xué)溶液稀釋罐82供給。在非活 性氣體供給管77安裝有用于切換向化學(xué)溶液稀釋罐82供給非活性氣體和停止向化學(xué)溶液 稀釋罐82供給非活性氣體的非活性氣體閥78。例如始終向化學(xué)溶液稀釋罐82供給非活性氣 體。由非活性氣體供給管77和非活性氣體閥78構(gòu)成非活性氣體供給部件。
[0111] 在該形態(tài)中，通過(guò)不打開(kāi)處理液閥28而打開(kāi)另外的處理液閥86,能夠?qū)⒂商幚硪?流量調(diào)整閥87調(diào)整好的預(yù)定流量的氫溶解處理液向化學(xué)溶液稀釋罐82供給。此外，通過(guò)不 打開(kāi)處理液閥28而打開(kāi)化學(xué)溶液閥76,能夠?qū)⒂苫瘜W(xué)溶液流量調(diào)整閥79調(diào)整好的預(yù)定流量 的化學(xué)溶液向化學(xué)溶液稀釋罐82供給。利用這些操作，能夠在化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)使化學(xué) 溶液和氫溶解處理液混合。因而，通過(guò)使用處理液流量調(diào)整閥87和化學(xué)溶液流量調(diào)整閥79 調(diào)整化學(xué)溶液的供給量和氫溶解處理液的供給量，能夠在化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)調(diào)制被稀釋 為預(yù)定比例的化學(xué)溶液。而且，通過(guò)不打開(kāi)處理液閥28而僅打開(kāi)稀釋化學(xué)溶液閥84,能夠向 處理液噴嘴4供給稀釋化學(xué)溶液。
[0112] 另一方面，通過(guò)不打開(kāi)稀釋化學(xué)溶液閥84而僅打開(kāi)處理液閥28,能夠向處理室2僅 供給氫溶解處理液。由此，能夠不向氫溶解處理液中混合化學(xué)溶液而將該氫溶解處理液作 為沖洗液原封不動(dòng)地向處理液噴嘴4供給。
[0113]此外，通過(guò)使用非活性氣體供給管77向化學(xué)溶液稀釋罐82供給非活性氣體，能夠 從化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)逐出空氣。因而，能夠抑制或者防止化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)的空氣所 含有的氧溶入到貯存在化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)的稀釋化學(xué)溶液中而使該稀釋化學(xué)溶液中的 溶解氧量增加。此外，通過(guò)利用非活性氣體對(duì)化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)加壓，也能夠?qū)⒒瘜W(xué)溶液 稀釋罐82內(nèi)的稀釋化學(xué)溶液向稀釋化學(xué)溶液供給管83加壓輸送。
[0114]利用非活性氣體的壓力、栗57的吸引力將化學(xué)溶液稀釋罐82內(nèi)的稀釋化學(xué)溶液從 化學(xué)溶液稀釋罐82吸出而向稀釋化學(xué)溶液供給管83輸送。此時(shí)，在栗57的緊接下游設(shè)有過(guò) 濾器和脫氣單元時(shí)，由栗57吸出來(lái)的稀釋化學(xué)溶液能夠通過(guò)過(guò)濾器而去除液體中的異物。 并且，通過(guò)了該過(guò)濾器的稀釋化學(xué)溶液利用脫氣單元進(jìn)行脫氣，能夠減少溶解氧量。其結(jié) 果，能夠向處理液供給管27供給減少了溶解氧量的稀釋化學(xué)溶液，進(jìn)一步提高本發(fā)明的效 果。就過(guò)濾器和脫氣單元的設(shè)置而言，也可以在栗57的下游按照脫氣單元和過(guò)濾器這樣的 順序來(lái)設(shè)置。在該情況下，也能夠獲得同樣的效果。
[0115] 另外，也可以將該變形形態(tài)3應(yīng)用于圖4所示的變形形態(tài)1。在這種情況下，優(yōu)選在 配管的位于該變形形態(tài)1的催化劑單元21和膜分離單元22之間的部分配置化學(xué)溶液調(diào)制單 元81。
[0116] 并且，在該變形形態(tài)3中，用于向處理液噴嘴4供給氫溶解處理液之外的其他的處 理液(例如臭氧水等不必添加氫的處理水）的其他處理液供給管90也可以連接于處理液供 給管27的處于處理液閥28的下游側(cè)的部分。在處理液供給管90安裝有用于切換向處理液噴 嘴4供給其他的處理液和停止向處理液噴嘴4供給其他的處理液的處理液閥91。通過(guò)利用控 制單元5切換處理液閥28、處理液閥91以及稀釋化學(xué)溶液閥84各自的開(kāi)閉動(dòng)作，能夠選擇處 理液。
[0117] 〈變形形態(tài)4>
[0118] 上述的各種形態(tài)的處理液噴嘴4保持于噴嘴臂19和支承軸20,但也可以是圖7所示 的形態(tài)。圖7的形態(tài)具有隔斷板11而替代保持于噴嘴臂19和支承軸20的處理液噴嘴4。
[0119] 參照?qǐng)D7,隔斷板11是厚度大致恒定的圓板狀的構(gòu)件。隔斷板11的直徑大于基板W 的直徑。隔斷板11以其中心軸線位于與旋轉(zhuǎn)卡盤3的旋轉(zhuǎn)軸線共用的軸線上的方式在旋轉(zhuǎn) 卡盤3的上方水平地配置。
[0120]隔斷板11具有呈圓盤形的平板部33。平板部33的下表面形成為平面，與保持于旋 轉(zhuǎn)卡盤3的基板W的上表面平行。該平板部33的下表面成為與保持于旋轉(zhuǎn)卡盤3的基板W相對(duì) 的基板相對(duì)面34?；逑鄬?duì)面34與保持于旋轉(zhuǎn)卡盤3的基板W相對(duì)，并且與旋轉(zhuǎn)底盤8的上表 面相對(duì)。還優(yōu)選的是，如圖7所示，隔斷板11的外周部在整周的范圍內(nèi)向下方彎折而形成了 筒狀的周壁部32。也就是說(shuō)，也可以形成有自基板相對(duì)面34的周圍朝向旋轉(zhuǎn)卡盤3突出的周 壁部32。
[0121] 隔斷板11的中央部具有用于支承該隔斷板11的空心結(jié)構(gòu)的支承軸31，在支承軸31 內(nèi)貫穿有處理液供給管27。在隔斷板11形成有一個(gè)或多個(gè)噴出口（未圖示），與支承軸31的 內(nèi)部空間相連通。能夠?qū)⑻幚硪航?jīng)由處理液供給管27向支承軸31的內(nèi)部空間供給。由此，能 夠從形成于隔斷板11的噴出口朝向保持于旋轉(zhuǎn)卡盤3的基板W的上表面部噴出處理液。
[0122] 并且，氣體供給管39貫穿于支承軸31內(nèi)。能夠?qū)⒆鳛榉腔钚詺怏w的一個(gè)例子的氮 氣從氣體供給管39向支承軸31的內(nèi)部空間供給。被供給到支承軸31的內(nèi)部空間的非活性氣 體能夠從形成于隔斷板11的噴出口（未圖示)朝向下方噴出。因此，能夠向隔斷板11和保持 于旋轉(zhuǎn)卡盤3的基板W之間的空間（間隙)供給非活性氣體。
[0123] 在氣體供給管39安裝有:氣閥18,其用于切換向該間隙供給非活性氣體和停止向 該間隙供給非活性氣體；以及氣體流量調(diào)整閥41，其用于調(diào)整向該間隙供給非活性氣體的 流量。
[0124] 此外，在支承軸31結(jié)合有隔斷板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)（隔斷構(gòu)件移動(dòng)機(jī)構(gòu))和隔斷板旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。利用該隔斷板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)力能夠使支承軸31和隔斷板11在作為基板相 對(duì)面34接近旋轉(zhuǎn)底盤8的上表面的位置的處理位置和作為自旋轉(zhuǎn)底盤8的上表面較大程度 地分開(kāi)的位置的退避位置之間一體地升降。并且，利用該隔斷板旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)力能 夠使支承軸31和隔斷板11繞與基板W共用的軸線一體地旋轉(zhuǎn)。由此，例如能夠使支承軸31和 隔斷板11與由旋轉(zhuǎn)卡盤3引起基板W的旋轉(zhuǎn)大致同步(或者使旋轉(zhuǎn)速度相差一些)地旋轉(zhuǎn)。
[0125] 在圖7的形態(tài)中，于在旋轉(zhuǎn)卡盤3保持有基板W的狀態(tài)下使隔斷板11位于處理位置。 并且，在從位于基板相對(duì)面34的噴出口噴出非活性氣體時(shí)，該非活性氣體在保持于旋轉(zhuǎn)卡 盤3的基板W的上表面和基板相對(duì)面34之間的空間朝向外方擴(kuò)展。因而，存在于基板W的上表 面和基板相對(duì)面34之間的空間的空氣被非活性氣體向外方擠出，從形成在周壁部32的頂端 邊緣和旋轉(zhuǎn)底盤8的上表面之間的間隙排出。由此，能夠利用非活性氣體置換基板W的上表 面和基板相對(duì)面34之間的氣氛。
[0126] 并且，于在旋轉(zhuǎn)卡盤3保持有基板W的狀態(tài)下使隔斷板11位于處理位置時(shí)，能夠利 用周壁部32包圍基板W的上表面和基板相對(duì)面34之間的空間，因此，能夠抑制或者防止其周 圍的空氣進(jìn)入到該空間的外周部。由此，能夠抑制或者防止在將基板W的上表面和基板相對(duì) 面34之間的氣氛置換為非活性氣體氣氛之后空氣進(jìn)入到基板W的上表面和基板相對(duì)面34之 間的空間而使該空間的氧濃度上升。
[0127] <變形形態(tài)5>
[0128] 至此說(shuō)明了的各種形態(tài)是在保持著基板W的旋轉(zhuǎn)卡盤3的上方配置有處理液噴嘴4 的形態(tài)(噴嘴形態(tài))或者在旋轉(zhuǎn)卡盤3的上方配置有形成有處理液噴出口的隔斷板11的形態(tài) (隔斷板形態(tài)）中的任一種。但是，本發(fā)明也可以像圖8所示的形態(tài)那樣具備噴嘴形態(tài)和隔斷 板形態(tài)這兩者。
[0129] 此外，處理液噴嘴也可以不只是一個(gè)，而針對(duì)清洗、蝕刻等處理的每個(gè)目的、或者 處理液的每個(gè)種類來(lái)設(shè)置。例如，也可以如圖8所示那樣在處理室2內(nèi)設(shè)置用于清洗基板W的 周端部的處理液噴嘴4a。也可以設(shè)有用于清洗隔斷板11、特別是基板相對(duì)面34的處理液噴 嘴(未圖示）?；蛘?，也可以采用處理液供給管27在作為基板保持機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)卡盤3的內(nèi)部通 過(guò)而向基板W的下表面供給處理液這樣的形態(tài)。
[0130]此外，處理液噴嘴例如也可以是使供給到噴嘴內(nèi)的處理液和非活性氣體混合而生 成處理液的液滴的二流體噴嘴。
[0131] <變形形態(tài)6>
[0132] 圖9是表示本發(fā)明的基板處理裝置1所采用的配管的優(yōu)選形態(tài)的圖。
[0133] 上述的、從催化劑單元21到形成于處理液噴嘴4或隔斷板11的噴出口的配管、從催 化劑單元21到化學(xué)溶液稀釋罐82的配管、從化學(xué)溶液稀釋罐82到形成于處理液噴嘴4或隔 斷板11的噴出口的配管中的任一者或者全部?jī)?yōu)選為圖9所示的形態(tài)。在此處的說(shuō)明中，將所 有的配管統(tǒng)稱為"配管100"。
[0134] 參照?qǐng)D9,配管100設(shè)為雙重結(jié)構(gòu)，其具有供處理液流通的內(nèi)側(cè)配管101和包圍該內(nèi) 側(cè)配管101的外側(cè)配管102。內(nèi)側(cè)配管101在外側(cè)配管102的內(nèi)部利用存在于內(nèi)側(cè)配管101和 外側(cè)配管102之間的支承構(gòu)件(未圖示)支承。內(nèi)側(cè)配管101在不與外側(cè)配管102接觸的狀態(tài) 下被支承。在內(nèi)側(cè)配管101和外側(cè)配管102之間呈筒狀地形成有空間。內(nèi)側(cè)配管101例如是耐 化學(xué)溶液性和耐熱性優(yōu)異的PFA、PTFE等氟樹脂制。氟樹脂能夠使氧透過(guò)。外側(cè)配管例如可 以使用PVC制、氟樹脂制的管。
[0135] 此外，在外側(cè)配管102連接有安裝有非活性氣體閥103的非活性氣體供給管104和 安裝有排氣閥105的排氣配管106。通過(guò)打開(kāi)非活性氣體閥103，能夠?qū)?lái)自未圖示的非活性 氣體供給源(例如氮?dú)猓┑姆腔钚詺怏w經(jīng)由非活性氣體供給管104向外側(cè)配管102的內(nèi)部供 給。由此，能夠向內(nèi)側(cè)配管101和外側(cè)配管102之間填充非活性氣體。由非活性氣體閥103和 非活性氣體供給管104構(gòu)成非活性氣體填充部件。此外，通過(guò)打開(kāi)排氣閥105,能夠從內(nèi)側(cè)配 管101和外側(cè)配管102之間排出氣體。
[0136] 通過(guò)在打開(kāi)排氣閥105的狀態(tài)下打開(kāi)非活性氣體閥103,能夠從內(nèi)側(cè)配管101和外 側(cè)配管102之間逐出空氣而將其間的氣氛置換為非活性氣體氣氛。由此，能夠利用非活性氣 體包圍內(nèi)側(cè)配管101。而且，通過(guò)在將內(nèi)側(cè)配管101和外側(cè)配管102之間的氣氛置換為非活性 氣體氣氛之后關(guān)閉非活性氣體閥103和排氣閥105,能夠維持內(nèi)側(cè)配管101被非活性氣體包 圍的狀態(tài)。
[0137] 通過(guò)利用非活性氣體包圍內(nèi)側(cè)配管101，能夠減少經(jīng)由內(nèi)側(cè)配管101的管壁進(jìn)入到 內(nèi)側(cè)配管101的內(nèi)部的氧的量。由此，能夠抑制或者防止氧溶入到在內(nèi)側(cè)配管101內(nèi)流通的 處理液中而使該處理液中的氧濃度上升。
[0138] [第二實(shí)施方式]
[0139] 上述的第一實(shí)施方式的處理室2具備單張式的清洗機(jī)構(gòu)，但本發(fā)明所包含的處理 室并不限定于此，也可以是具備批量式的清洗機(jī)構(gòu)的處理室。
[0140] 圖10表示將圖5的形態(tài)(變形形態(tài)2)的處理室替換為具備批量式的清洗機(jī)構(gòu)的處 理室的例子。但是，該圖是一個(gè)例子，不僅可以將上述的變形形態(tài)2應(yīng)用于具備該批量式的 清洗機(jī)構(gòu)的處理室2,也可以將上述其他的變形形態(tài)1~6分別或者全部應(yīng)用于具備該批量 式的清洗機(jī)構(gòu)的處理室2。另外，對(duì)與第一實(shí)施方式相同的構(gòu)成要素標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記， 該構(gòu)成要素的說(shuō)明與第一實(shí)施方式相同，因此省略。
[0141] 參照?qǐng)D10,第二實(shí)施方式的基板處理裝置1的處理室2具有用于貯存處理液而用該 處理液清洗處理基板W的處理槽201。在處理槽201的外周設(shè)有用于接收自處理槽201溢出來(lái) 的處理液的溢流部202。
[0142] 在處理室2內(nèi)也具有用于將基板W向處理槽201內(nèi)輸送的基板輸送機(jī)構(gòu)（未圖示）。 使用升降機(jī)和卡盤作為基板輸送機(jī)構(gòu)?？ūP在一并地保持多張基板W的狀態(tài)下將它們從處 理室2外輸送到處理槽201的上方。升降機(jī)在處理槽201的上方自該卡盤接受多張基板W，在 一并地支承這些多張基板W的狀態(tài)下下降，將它們浸漬在貯存于處理槽201的處理液中。
[0143] 在處理槽201的底部配設(shè)有用于向處理槽201內(nèi)供給處理液的處理液噴嘴203。在 各個(gè)處理液噴嘴203連接有自處理液供給管27分支的配管。在各處理液噴嘴203形成有用于 朝向基板W噴出處理液的多個(gè)噴出口。
[0144] 像在第一實(shí)施方式中說(shuō)明的那樣，處理液是使用包含催化劑單元21和膜分離單元 22的部件去除了溶解氧和過(guò)氧化氫的氫溶解處理液。
[0145] 噴出來(lái)的處理液貯存在處理槽201內(nèi)，從處理槽201的上端部溢流?；錡能夠被此 時(shí)處理液的上升流均勻地清洗。
[0146] 基板W的清洗處理所采用的、從處理槽201的上端部溢流出的處理液臨時(shí)貯存在形 成于處理槽201的外周的溢流部202。在溢流部202的底部連接有具有電阻率計(jì)205的排水管 206。因此，臨時(shí)貯存在溢流部202的純水在通過(guò)了電阻率計(jì)205之后被排出到基板處理裝置 1外。
[0147] 該電阻率計(jì)205是出于這樣的目的使用的：通過(guò)測(cè)量清洗基板W所采用的處理液的 電阻率值，測(cè)量處理液的清潔度，根據(jù)該測(cè)量值判斷基板W的清洗度。
[0148] 此外，為了急速地排出已貯存在處理槽201內(nèi)的處理液，在處理槽201的底部形成 有比較大徑的排出口 204。在排出口 204連接有用于將處理液排出到基板處理裝置1外的排 水管207。在排水管207安裝有利用控制單元5開(kāi)閉動(dòng)作的排水閥208。
[0149] 在處理槽201的上方配設(shè)有以能夠打開(kāi)、關(guān)閉處理槽201的開(kāi)口的方式工作的一對(duì) 蓋構(gòu)件209。在各蓋構(gòu)件209開(kāi)設(shè)有噴出口，在該噴出口連接有自氣體供給管39分支的配管。 由此，能夠向以蓋構(gòu)件209為蓋的處理槽201內(nèi)供給非活性氣體，利用非活性氣體吹掃處理 槽201內(nèi)的處理液的上方空間。
[0150]這樣，通過(guò)不在處理槽201內(nèi)設(shè)置用于供給非活性氣體的噴嘴而在蓋構(gòu)件209上形 成非活性氣體的噴出口，能夠減小包括處理槽201和蓋構(gòu)件209的上下方向的空間，能夠防 止基板處理裝置1整體大型化。此外，由于能夠減小被貯存在處理槽201中的處理液的液面 和蓋構(gòu)件209的下表面之間的距離，因此，能夠進(jìn)一步減少向處理槽201內(nèi)供給的非活性氣 體的量。
[0151][第三實(shí)施方式]
[0152]圖11是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的基板處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的示意圖。
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